[특허]Copper etching compositions and method for etching copper

Copper etching compositions and method for etching copper 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23F-001/00
출원번호	US-0260169 (1999-03-01)
발명자 / 주소	Bishop Craig V. Kochilla John R. Durante Robert J. Bokisa George S.
출원인 / 주소	McGean-Rohco, Inc.
대리인 / 주소	Renner, Otto, Boiselle & Sklar
인용정보	피인용 횟수 : 25 인용 특허 : 11

초록 ▼

The invention also relates to a process for etching metallic copper comprising contacting the surface of a copper substrate with the aqueous etching compositions of the invention. A method of regenerating a spent aqueous etching composition of the invention which has been used for etching metallic c

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [30.] A method of regenerating a spent aqueous etching composition used for etching metallic copper comprising:(a) an acid,(b) a copper complex,(c) a metal capable of having a multiplicity of oxidation states and which is present in the composition in one of its higher positive oxidation states, and(d) dissolved oxygen, d process comprising removing the copper complex formed during the etching process by crystallization or by resin exchange.

이 특허에 인용된 특허 (11)

Bokisa George S. (North Olmsted OH) Willis William J. (North Royalton OH), Aqueous electroless plating solutions.
상세보기
Elias Moenes L. (Canfield OH) Burger Walter L. (Salem OH), Dissolution of metals utilizing tungsten.
상세보기
Courduvelis Constantine I. (Orange CT), Metal dissolution process using H₂O₂－H₂SO₄ etchant.
상세보기

Hillis, Maurice R., Method and apparatus for etching copper.
상세보기

Narisawa Toshio (Aichi JPX) Kato Ryohei (Aichi JPX) Nakamura Masanori (Nara JPX) Yamaguchi Hitoyoshi (Osaka JPX), Method for concurrent production of copper powder and a metal chloride.
상세보기

Wong Kwee C. (Orange County CA), Method for etching copper and composition useful therein.
상세보기

Sutcliffe Gary R. (Kensington CT) Conrod Jay B. (Cheshire CT), Method for manufacture of printed circuit boards.
상세보기

Kukanskis Peter (Woodbury CT) Grunwald John J. (New Haven CT), Method for the manufacture of printed circuit boards.
상세보기

Konstantouros Efthimios (Munich DEX), Method of regenerating ammoniacal etching solutions useful for etching metallic copper.
상세보기

Nelson Norvell J. (Palo Alto CA), Process for etching copper.
상세보기

Larson Gary B., Process for the manufacture of printed circuit boards.
상세보기

이 특허를 인용한 특허 (25)

Whitney, Jr., Dickson L.; Bokisa, George S.; Bishop, Craig V.; Vitale, Americus C., Adhesion of polymeric materials to metal surfaces.
상세보기

Chen, Philip S. H.; Hunks, William; Chen, Tianniu; Stender, Matthias; Xu, Chongying; Roeder, Jeffrey F.; Li, Weimin, Amorphous Ge/Te deposition process.
상세보기

Hunks, William; Chen, Tianniu; Xu, Chongying; Roeder, Jeffrey F.; Baum, Thomas H.; Stender, Matthias; Chen, Philip S. H.; Stauf, Gregory T.; Hendrix, Bryan C., Antimony and germanium complexes useful for CVD/ALD of metal thin films.
상세보기

Hunks, William; Chen, Tianniu; Xu, Chongying; Roeder, Jeffrey F.; Baum, Thomas H.; Stender, Matthias; Chen, Philip S. H.; Stauf, Gregory T.; Hendrix, Bryan C., Antimony and germanium complexes useful for CVD/ALD of metal thin films.
상세보기

Hunks, William; Chen, Tianniu; Xu, Chongying; Roeder, Jeffrey F.; Baum, Thomas H.; Stender, Matthias; Chen, Philip S. H.; Stauf, Gregory T.; Hendrix, Bryan C., Antimony and germanium complexes useful for CVD/ALD of metal thin films.
상세보기

Xu, Chongying; Borovik, Alexander S.; Baum, Thomas H., Copper (I) compounds useful as deposition precursors of copper thin films.
상세보기

Xu,Chongying; Borovik,Alexander; Baum,Thomas H., Copper (I) compounds useful as deposition precursors of copper thin films.
상세보기

Zheng, Jun-Fei, Double self-aligned phase change memory device structure.
상세보기

Kim, Bong-Kyun; Choung, Jong-Hyun; Lee, Byeong-Jin; Hong, Sun-Young; Park, Hong-Sick; Kim, Shi-Yul; Lee, Ki-Beom; Cho, Sam-Young; Kim, Sang-Woo; Shin, Hyun-Cheol; Seo, Won-Guk, Etchant and method of manufacturing an array substrate using the same.
상세보기

Zheng, Jun-Fei, Germanium antimony telluride materials and devices incorporating same.
상세보기

Zheng, Jun-Fei, Germanium antimony telluride materials and devices incorporating same.
상세보기

Zheng, Jun-Fei; Roeder, Jeffrey F.; Li, Weimin; Chen, Philip S. H., High concentration nitrogen-containing germanium telluride based memory devices and processes of making.
상세보기

Roeder, Jeffrey F.; Baum, Thomas H.; Hendrix, Bryan C.; Stauf, Gregory T.; Xu, Chongying; Hunks, William; Chen, Tianniu; Stender, Matthias, Low temperature deposition of phase change memory materials.
상세보기

Ottertun, Harald, Method for etching copper and recovery of the spent etching solution.
상세보기

Jang, Eun Joo; Son, Seung Uk, Method for preparing nanoparticles using carbene derivatives.
상세보기

Bae, Byoung-Jae; Cho, Sung-Lae; Lee, Jin-Il; Park, Hye-Young; Kim, Do-Hyung, Method of forming phase change material layer using Ge(II) source, and method of fabricating phase change memory device.
상세보기

Bae, Byoung-jae; Cho, Sung-lae; Lee, Jin-il; Park, Hye-young; Kim, Do-hyung, Method of forming phase change material layer using Ge(II) source, and method of fabricating phase change memory device.
상세보기

Feng, Kesheng; Kapadia, Nilesh; Castaldi, Steven A., Microetching composition and method of using the same.
상세보기

Feng,Kesheng; Kapadia,Nilesh; Castaldi,Steven A., Microetching composition and method of using the same.
상세보기

Kurii, Masayo; Tai, Kiyoto; Nakamura, Mami, Microetching solution for copper, replenishment solution therefor and method for production of wiring board.
상세보기

Kurii, Masayo; Tai, Kiyoto; Nakamura, Mami, Microetching solution for copper, replenishment solution therefor and method for production of wiring board.
상세보기

Ohto, Masaru; Matsunaga, Hiroshi; Yamada, Kenji, Processing liquid for suppressing pattern collapse of fine metal structure and method for producing fine metal structure using same.
상세보기

Chen, Tianniu; Xu, Chongying; Roeder, Jeffrey F.; Baum, Thomas H., Tantalum amido-complexes with chelate ligands useful for CVD and ALD of TaN and Ta0thin films.
상세보기

Chen, Tianniu; Xu, Chongying; Roeder, Jeffrey F.; Baum, Thomas H., Tantalum amido-complexes with chelate ligands useful for CVD and ALD of TaN and Ta205 thin films.
상세보기

Stender, Matthias; Xu, Chongying; Chen, Tianniu; Hunks, William; Chen, Philip S. H.; Roeder, Jeffrey F.; Baum, Thomas H., Tellurium compounds useful for deposition of tellurium containing materials.
상세보기

IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
저장형식	Text(ASCII format) Excel format PIAS분석(.xls)
메일정보	받는사람 (필수) @ 보내는사람 (선택) @ 제목 내용 KISTI 검색결과 이메일 서비스
안내	총 건의 자료가 검색되었습니다. 다운받으실 자료의 인덱스를 입력하세요. (1-10,000) 검색결과의 순서대로 최대 10,000건 까지 다운로드가 가능합니다. 데이타가 많을 경우 속도가 느려질 수 있습니다.(최대 2~3분 소요) 다운로드 파일은 UTF-8 형태로 저장됩니다. 파일의 내용이 제대로 보이지 않을실 때는 웹브라우저 상단의 보기 -> 인코딩 -> 자동선택 여부를 확인하십시오. ~ Text(ASCII format) Excel format

연합인증

Copper etching compositions and method for etching copper 원문보기

초록 ▼

대표청구항 ▼

연구과제 타임라인

이 특허에 인용된 특허 (11)

이 특허를 인용한 특허 (25)

관련 콘텐츠

특허 원문 보기

IPC 상위 출원인

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

선택된 텍스트

연합인증

Copper etching compositions and method for etching copper 원문보기

초록 ▼

대표청구항 ▼

연구과제 타임라인

전체(0) 논문(0) 특허(0) 보고서(0)

전체(0) 논문(0) 특허(0) 보고서(0)

이 특허에 인용된 특허 (11)

이 특허를 인용한 특허 (25)

관련 콘텐츠

특허 원문 보기

IPC 상위 출원인

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

선택된 텍스트