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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0208112 (1998-12-09) |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 52 인용 특허 : 5 |
Surface cleaning, chemical treatment and drying of semiconductor substrates is carried out using foam as a medium instead of a condensed phase liquid medium. In cleaning and chemical treatment, by introducing a foam into an overflow vessel the foam is caused to pass over the substrate in moving cont
[ I claim:] [1.] A process for drying a substrate comprising the steps of:supporting the substrate within a foam treatment vessel causing the supported substrate to be submerged in a solution of carbon dioxide in deionized water under pressure within said foam treatment vessel;thereafter gradually r
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