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Crystalline Si.sub.x C.sub.y N.sub.z and method for synthesis 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C01B-033/00
출원번호 US-0915173 (1997-08-20)
발명자 / 주소
  • Chen Li-Chyong,TWX
  • Chen Kuei-Hsien,TWX
  • Bhusari Dhananjay Manohar,TWX
  • Chen Chun-Ku,TWX
출원인 / 주소
  • National Science Council of Republic of China, TWX
대리인 / 주소
    Bacon & Thomas
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 6

초록

A novel material Si.sub.X C.sub.y N.sub.z, having a crystal structure similar to that of a.Si.sub.3 N.sub.4 with carbon atoms substituting most of the Si sites, is synthesized in crystalline form onto crystalline Si substrates by microwave plasma enhanced decomposition of carbon, silicon and nitroge

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A method of synthesizing a ternary Si.sub.x C.sub.y N.sub.z compound comprising a predominantly carbon-nitride network in crystalline form on a crystalline Si substrate, wherein the chemical composition of the ternary compound is in the range of Si: (x=) 15-20 at. %, C: (

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Devlin David J. (Los Alamos NM) Currier Robert P. (Los Alamos NM) Laia ; Jr. Joseph R. (Los Alamos NM) Barbero Robert S. (Santa Cruz NM), Chemical vapor infiltration using microwave energy.
  2. Haller Eugene E. (Berkeley CA) Cohen Marvin L. (Berkeley CA) Hansen William L. (Walnut Creek CA), Hard carbon nitride and method for preparing same.
  3. Knapp Bradley J. (Kutztown PA) Kimock Fred M. (Macungie PA) Petrmichl Rudolph H. (Center Valley PA) Galvin Norman D. (Easton PA), Ion beam process for deposition of highly abrasion-resistant coatings.
  4. Pryor Roger W. (Bloomfield Township ; Bloomfield Hills County MI 48013), Method for heteroepitaxial diamond film development.
  5. Maya, Leon, Method of chemical vapor deposition of boron nitride using polymeric cyanoborane.
  6. Hudgens Stephen J. (Southfield MI) Johncock Annette G. (Royal Oak MI) Ovshinsky Stanford R. (Bloomfield Hills MI) Nath Prem (Rochester MI), Plasma deposited coatings, and low temperature plasma method of making same.

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Achuthan,Krishnashree; Cheung,Patrick K.; Tabery,Cyrus; Yang,Jean Y.; Cheng,Ning; Ngo,Minh Van, Flash memory cell with UV protective layer.
  2. Yoo,Tae Kyung; Park,Eun Hyun, Method for material growth of GaN-based nitride layer.
  3. Ngo,Minh V.; Cheng,Ning; Erhardt,Jeff P.; Ferguson,Clarence B.; Tabery,Cyrus; Caffall,John; Gottipati,Tyagamohan; Hopper,Dawn, Protection of charge trapping dielectric flash memory devices from UV-induced charging in BEOL processing.
  4. Sung, Chien-Min, SiCN compositions and methods.
  5. Zerr, Andreas; Kroke, Edwin Rolf Balduin; Riedel, Ralf Peter; Schwarz, Marcus Rolf, Silicon carbonitride with spinel structure.
  6. Cheng,Ning; Ferguson,Clarence B.; Lingunis,Emmanuil H.; Ngo,Minh Van; Reiss,Joerg; Yang,Jean Y.; Shields,Jeffrey A.; Tabery,Cyrus, UV-blocking etch stop layer for reducing UV-induced charging of charge storage layer in memory devices in BEOL processing.
  7. Ngo, Minh V.; Kamal, Tazrien; Ramsbey, Mark T.; Halliyal, Arvind; Park, Jaeyong; Cheng, Ning; Erhardt, Jeff P.; Ferguson, Clarence B.; Shields, Jeffrey A.; Hui, Angela T.; Huertas, Robert A.; Gottipa, UV-blocking layer for reducing UV-induced charging of SONOS dual-bit flash memory devices in BEOL.
  8. Ngo,Minh V.; Kamal,Tazrien; Ramsbey,Mark T.; Halliyal,Arvind; Park,Jaeyong; Cheng,Ning; Erhardt,Jeff P.; Ferguson,Clarence B.; Shields,Jeffrey A.; Hui,Angela T.; Huertas,Robert A.; Gottipati,Tyagamoh, UV-blocking layer for reducing UV-induced charging of SONOS dual-bit flash memory devices in BEOL processing.
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