최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0917267 (1997-08-25) |
우선권정보 | JP-0015505 (1994-02-09) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 22 |
In order to easily and accurately manufacture a micromachine comprising a member which is made of a single-crystalline material and having a complicated structure, an uppermost layer (1104) of a single-crystalline Si substrate (1102) whose (100) plane is upwardly directed is irradiated with Ne atom
[ What is claimed is:] [1.] A method of manufacturing a micromachine comprising a member being at least partially separated from a base material, said method comprising:(a) a step of forming a sacrificial layer on said base material;(b) a step of forming a layer of a material, to form said member on
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.