최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0166987 (1998-10-06) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 28 인용 특허 : 17 |
A method for removing trace moisture from a gas is disclosed. The method involves heating a zeolite having a high silica-to-alumina ratio to about 400.degree. C. to remove physically absorbed water from the zeolite, followed by heating the zeolite to a temperature in excess of 650.degree. C., to for
[ What is claimed is:] [1.] A method for removing water from a gas, comprising contacting said gas with a zeolite which has a silica-to-alumina ratio of above about 10, wherein the zeolite has been heated prior to contacting it with said gas to a temperature above about 650.degree. C.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.