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Method and device for coating substrate 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/34
  • C23C-014/36
출원번호 US-0348914 (1999-07-07)
우선권정보 DE-0030223 (1998-07-07)
발명자 / 주소
  • Hollstein Frank,DEX
출원인 / 주소
  • Techno-Coat Oberflachentechnik GmbH, DEX
대리인 / 주소
    Baker Botts L.L.P.
인용정보 피인용 횟수 : 25  인용 특허 : 4

초록

A device and a process for multilayer PVD ("Physical Vapor Deposition") coating of substances includes one or more sputter target systems. A sputter target system generally consists of a plurality of individual targets arranged in the cross-sectional shape of a hollow regular polygon. The arrangemen

대표청구항

[ What is claimed:] [1.] A device for multilayer PVD coating of a substrate comprising:a coating chamber for receiving at least one substrate to be coated;a sputter source within said coating chamber, said sputter source including a sputter target system, said sputter target system including at leas

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. McKelvey Harold E. (Plymouth MI), Cathodic sputtering apparatus.
  2. McKelvey Harold E. (Plymouth MI), Magnetron cathode sputtering apparatus.
  3. Scott Gene (El Toro CA) Kohlenberger Charles W. (Fullerton CA) Warren David M. (Chino Hills CA), Multiple ion source method and apparatus for fabricating multilayer optical films.
  4. Chapin John S. (Boulder CO), Sputtering process and apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (25)

  1. Kathrein, Martin; Michotte, Claude; Polcik, Peter, Coated tool.
  2. Eitzinger, Günter, Coating method.
  3. Guo, George X.; Wang, Kai-an, Deposition system.
  4. Guo, George X.; Wang, Kai-an, Deposition system and methods having improved material utilization.
  5. Guo, George X.; Wang, Kai-an, Deposition system with improved material utilization.
  6. Kijima, Takeshi; Natori, Eiji; Suzuki, Mitsuhiro, Film forming apparatus, substrate for forming oxide thin film and production method thereof.
  7. Kijima, Takeshi; Natori, Eiji; Suzuki, Mitsuhiro, Film forming apparatus, substrate for forming oxide thin film, and production method thereof.
  8. Proudfoot, Gary; George, Christopher David; Lima, Paulo Edurado; Green, Gordon Robert; Trowell, Robert Kenneth, Ion deposition apparatus having rotatable carousel for supporting a plurality of targets.
  9. Guo, George Xinsheng, Magnetron source for deposition on large substrates.
  10. Manuel,Mark; Kirkum,Christopher Dean; Racklyeft,Robert, Method and apparatus for the creation of a tool.
  11. Manuel,Mark; Kirkum,Christopher Dean; Racklyeft,Robert, Method and apparatus for the creation of a tool.
  12. Arnold, Rocky R., Method and device for coating a substrate.
  13. Manuel,Mark, Method for building a tool.
  14. Greaves,Thomas Nelson, Method for forming a tangible item and a tangible item formed by the method.
  15. Alexander Pechenik, Method for making a nano-stamp and for forming, with the stamp, nano-size elements on a substrate.
  16. Manuel,Mark, Method for producing a tool.
  17. Guo, George Xinsheng, Single-process-chamber deposition system.
  18. Manuel,Mark; Greaves,Thomas N., System and a method for cooling a tool.
  19. Glocker, David A.; Romach, Mark, System for unbalanced magnetron sputtering with AC power.
  20. Meyer William A., Target assembly for ion beam sputter deposition with multiple paddles each having targets on both sides.
  21. Manuel,Mark, Tool and a method for creating a tool.
  22. Manuel,Mark; Greaves,Thomas N., Tool and a method for creating the tool.
  23. Manuel,Mark; Greaves,Thomas N., Tool and a method for making a tool.
  24. Manuel, Mark, Tool having an ejection assembly, a method for making such a tool, and a method for ejecting a formed object from a tool.
  25. Guo, George Xinsheng; Wang, Kai An, Vacuum processing and transfer system.
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