[특허]Gas tube with heating apparatus

United Microelectronics Corp., TWX

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Gas tube with heating apparatus

국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-010/00 C23C-016/455 F17D-001/04 F28C-001/14
출원번호	US-0257577 (1999-02-25)
발명자 / 주소	Lai Chien-Hsin,TWX Yu Fu-Yang,TWX
출원인 / 주소	United Microelectronics Corp., TWX
대리인 / 주소	Huang
인용정보	피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 2

초록 ▼

A gas tube with heating apparatus. The gas tube is applicable in a chemical vapor deposition machine. The gas comprises a gas circulating tube and a coaxial gas tube invaginating a gas transporting tube therein. A heater is installed in the gas circulating tube, while the coaxial tube is covered by a thermal insulating layer. In addition, a control valve, a pressure gauge, and a particle trap are installed in a gas supplying tube connecting with the gas circulating tube.

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] A gas tube with a heating apparatus, installed in a chemical vapor deposition machine which comprises a reacting chamber, a gas transporting tube with one end connected to the reacting chamber, the gas tube comprising:a coaxial tube, carrying a high temperature gas therein invaginating the gas transporting tube coaxially, wherein the high temperature gas keeps a reactant gas in the gas transporting tube at a required operation temperature;a gas circulating tube, with two ends coupled to two ends of the coaxial tube to construct a circulating loop;a heater, installed in the gas circulating tube;a gas supplying tube, with one end coupled to the gas circulating tube; anda controlling valve, installed in the gas supplying tube.

이 특허에 인용된 특허 (2)

Gardiner Robin A. (Bethel CT) Van Buskirk Peter (Newtown CT) Kirlin Peter S. (Bethel CT), Apparatus and method for delivering reagents in vapor form to a CVD reactor, incorporating a cleaning subsystem.
상세보기
Gross Timothy D. (Boise ID), Thermal control of concentric tube liquid source gas lines.
상세보기

이 특허를 인용한 특허 (5)

Derderian,Garo J.; Morrison,Gordon, Deposition system to provide preheating of chemical vapor deposition precursors.
상세보기
Rajewski,Robert C., Gas powered heat delivery system.
상세보기
Carpenter,Craig M.; Cantin,Raynald B., Heated gas line body feedthrough for vapor and gas delivery systems and methods for employing same.
상세보기
Derderian,Garo J.; Morrison,Gordon, Preheating of chemical vapor deposition precursors.
상세보기
Naylor, Geoffrey, Vapor phase heaters.
상세보기

관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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