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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0251744 (1999-02-18) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 20 인용 특허 : 8 |
Provided are a system and method for saturating a gas with a vapor from a liquid chemical. The system includes: (a) a saturation vessel connected to receive a liquid chemical and a carrier gas; (b) a gas sparger in the saturation vessel for sparging the carrier gas into the liquid chemical; (c) mean
[ What is claimed is:] [6.] A method of saturating a gas with a vapor from a liquid chemical, comprising the steps of:(a) introducing a liquid chemical and a carrier gas into a saturation vessel, wherein the carrier gas is sparged into the liquid chemical to form a gas saturated with vapor from the
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