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Method of and apparatus for purifying reduced pressure process chambers

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-053/04
출원번호 US-0124799 (1998-07-29)
발명자 / 주소
  • Wise Rick L.
  • Kasner Michael A.
출원인 / 주소
  • Texas Instruments Incorporated
대리인 / 주소
    Garner
인용정보 피인용 횟수 : 7  인용 특허 : 8

초록

Gas purification resins are encapsulated in deformable, permeable polymer sheaths to form purification rings, gaskets or seals. A primary source of contaminants in advanced vacuum processors equipped with vacuum load-lock systems and process gas purifiers is from the leakage of outside ambient conta

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A seal for a chamber comprising:(a) an O-ring; and(b) a purification member disposed adjacent said O-ring for absorbing contaminants, wherein said purification member comprises:a material taken from the class of organometallic resins; anda contaminant permeable casing enc

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Rendina David Deck,CAX, Composite materials, processes for manufacturing the composites, composite electrode, hydrogen occluding composite, an.
  2. Schneider Kirk A. ; Drasner ; III Henry J. ; Liebrenz Allan L. ; Isogawa Katsushi ; Miller ; III Stanley Bucknam ; Kojetin Paul Lawrence ; Bellefeuille Cynthia D. ; Dallas Andrew J. ; Nunnink Suzan K, Filter and method for making a filter.
  3. Dauber Edwin G. (Chesapeake City MD) McKenna Douglas B. (Dover DE) Winterling Michael S. (Newark DE), Nonparticulating adsorbent recirculating filter.
  4. Meinzer Richard A. (Glastonbury CT), Polymeric storage bed for hydrogen.
  5. Youssef Kamal A. (P.O. Box 6548 W. Palm Beach FL 33405), Prolonged incubation microbiological apparatus and filter gaskets thereof.
  6. Rice Michael ; Askarinam Eric, Protective collar for vacuum seal in a plasma etch reactor.
  7. Martin ; Philippe, Sealing device for a vacuum enclosure.
  8. Ueda Takahisa,JPX ; Fujiwara Masaru,JPX ; Yamamoto Terumasa,JPX, Sealing gasket made of expanded graphite, with opened thin-leaf surface structure.

이 특허를 인용한 특허 (7)

  1. Yoshino, Masato; Fujiwara, Hiroki, Foil bearing.
  2. Yoshino, Masato; Fujiwara, Hiroki, Foil bearing.
  3. Yoshino, Masato; Fujiwara, Hiroki, Foil bearing.
  4. van der Maas, Marinus Frans, In-line filter with quick-change coupling and a filter.
  5. Datta, Amitava; Amos, Peter G.; More, Dominick G.; Cornett, Kenneth W.; Payne, Jeremy, Semiconductor process chamber.
  6. Saga, Koichiro, Substrate transfer apparatus and substrate method.
  7. Dickinson, Colin John; Murphy, Daimhin Paul, Vacuum load lock, system including vacuum load lock, and associated methods.
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