[특허]Nitrogen gas supply system for dry-cut working machine

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Nitrogen gas supply system for dry-cut working machine 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B24B-001/00
출원번호	US-0310730 (1999-05-13)
우선권정보	JP0227670 (1998-07-28)
발명자 / 주소	Ukai Hisashi,JPX Suzuki Toshiyuki,JPX Suzuki Takayuki,JPX
출원인 / 주소	Enshu Ltd., JPX
대리인 / 주소	McGinn & Gibb, P.C.
인용정보	피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 7

초록 ▼

A nitrogen gas supply system for dry-cut working machine, comprising a nitrogen gas generator for separating and extracting only nitrogen gas from the atmosphere, and a supplier for sending the extracted nitrogen gas to a working part. The nitrogen gas obtained from the atmosphere can effectively be

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] A nitrogen gas supply system for a dry-cut working machine, comprising:a nitrogen gas generator which separates and extracts only nitrogen gas existing in the atmosphere, said generator comprising heating means for preventing condensation of moisture in said atmosphere prior to extracting and separating said nitrogen gas; anda supplier which sends said nitrogen gas from said nitrogen gas generator to a working part of a working machine.

이 특허에 인용된 특허 (7)

Homanick George (Northville MI) Early Edward J. (Oakland MI), Controlled atmosphere machining.
상세보기
Runkle Franklin D. (Novi MI) Tennenhouse Gerald J. (Southfield MI), Method and apparatus for increasing wear life of ceramic tools.
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Itoh Masao (Hachioji JPX) Kawada Sunao (Hachioji JPX) Inagi Masataka (Hachioji JPX) Hashimoto Takayoshi (Hachioji JPX) Itoh Toyotsugu (Hachioji JPX), Method of surface machining for substrate of electrophotographic photoreceptor.
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Knoblauch, Karl; Heimbach, Heinz; Harder, Burkhard, Process for recovering nitrogen from oxygen-containing gas mixtures.
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Barbe Christian (Fontenay-Aux-Roses FRX), Process for supplying nitrogen by means of semi-permeable membranes or of separators of gases by adsorption.
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Combier Alain (Westmount CAX), Process for supplying nitrogen from an on-site plant.
상세보기
Nguyen Jane H. (Fort Bend TX), Semiconductors structure precision lapping method and system.
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이 특허를 인용한 특허 (3)

Usuki,Hiroshi, Controlled atmosphere cutting method using oxygen enrichment and cutting tool.
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Jingu, Takahiro, Inspection device.
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Shields, Jason Robert; Ben Moshe, Nir; Hazelton, Andrew J., Protected lens cover plate for an optical metrology device.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

내보내기 메뉴
내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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