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Quart crucible with large diameter for pulling single crystal and method of producing the same 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C30B-023/00
출원번호 US-0377103 (1999-08-19)
우선권정보 JP0057924 (1996-03-14)
발명자 / 주소
  • Sato Tatsuhiro,JPX
  • Mizuno Shigeo,JPX
  • Matsumura Mitsuo,JPX
  • Watanabe Hiroyuki,JPX
출원인 / 주소
  • Shin Etsu Quartz Products Co., Ltd., JPX
대리인 / 주소
    Arent Fox Kintner Plotkin & Kahn PLLC
인용정보 피인용 횟수 : 12  인용 특허 : 6

초록

A crucible with 22 inches or more in inner diameter, which has a small deformation of the body under exposure to abundant heat radiation during pulling a single crystal, and which has no practical problem, and a method of producing the same are disclosed. The method comprises the steps of: feeding f

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A method of producing a large diameter quartz crucible with an inner diameter of 22 inches or more, being composed of an opaque outer layer having a high bubble content and a transparent inner layer being substantially free of bubble, which crucible is used for pulling a

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Bihuniak Peter P. (3532 Norwood Rd. Shaker Heights OH 44122) Dogunke Gordon E. (4709 Burger Ave. Cleveland OH 44109) Shelley Robert D. (10503 Cedar Rd. Chesterland OH 44026), Fused quartz member for use in semiconductor manufacture.
  2. Bihuniak Peter P. (Shaker Heights OH) Dogunke Gordon E. (Cleveland OH) Shelley Robert D. (Chesterland OH), Fused quartz member for use in semiconductor manufacture.
  3. Uchikawa Akira (Takefu JPX) Iwasaki Atsushi (Takefu JPX) Fukuoka Toshio (Sabae JPX) Matsumura Mitsuo (Takefu JPX) Matsui Hiroshi (Takefu JPX) Sato Yasuhiko (Annaka JPX) Aoyama Masaaki (Kouriyama JPX), Manufacture of a quartz glass vessel for the growth of single crystal semiconductor.
  4. Uchikawa Akira (Takefu JPX) Iwasaki Atsushi (Takefu JPX) Fukuoka Toshio (Sabae JPX) Matsumura Mitsuo (Takefu JPX) Matsui Hiroshi (Takefu JPX) Sato Yasuhiko (Annaka JPX) Aoyama Masaaki (Kouriyama JPX), Manufacture of a quartz glass vessel for the growth of single crystal semiconductor.
  5. Brning Rolf (Bruchkbel DEX) Habegger Friedhelm (Hammersbach DEX), Method of making quartz glass crucibles, and apparatus carrying out the method.
  6. Sato Tatsuhiro,JPX ; Mizuno Shigeo,JPX ; Matsumura Mitsuo,JPX ; Watanabe Hiroyuki,JPX, Quartz crucible with large diameter for pulling single crystal and method of producing the same.

이 특허를 인용한 특허 (12)

  1. Sato, Tadahiro, High-purity vitreous silica crucible used for pulling large-diameter single-crystal silicon ingot.
  2. Hansen, Richard L.; Ahlgren, Frederic F.; Giddings, Robert A., Method for quartz crucible fabrication.
  3. Kemmochi, Katsuhiko; Kayser, Thomas; Coolich, Robert Joseph; Lehmann, Walter, Method of making a silica crucible in a controlled atmosphere.
  4. Sudo, Toshiaki; Yoshioka, Takuma; Suzuki, Koichi; Yamazaki, Shinsuke, Method of manufacturing vitreous silica crucible, vitreous silica crucible.
  5. Ohama, Yasuo, Quartz glass crucible for pulling up silicon single crystal and method for manufacture thereof.
  6. Ohama, Yasuo; Togawa, Takayuki, Quartz glass crucible for pulling up silicon single crystal and method for producing the same.
  7. Shimazu, Atsushi; Sato, Tadahiro, Silica crucible for pulling silicon single crystal and method of producing the same.
  8. Kemmochi, Katsuhiko; Coolich, Robert Joseph, Silica crucible with pure and bubble free inner crucible layer and method of making the same.
  9. Kemmochi,Katsuhiko; Ohama,Yasuo, Silica glass crucible with barium-doped inner wall.
  10. Kemmochi,Katsuhiko; Mosier,Robert; Ohama,Yasuo, Silica glass crucible with bubble-free and reduced bubble growth wall.
  11. Kodama, Makiko; Kishi, Hiroshi; Kanda, Minoru, Vitreous silica crucible for pulling silicon single crystal.
  12. Kishi, Hiroshi, Vitreous silica crucible for pulling single-crystal silicon and method of manufacturing the same.
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