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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0059532 (1998-04-13) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 14 인용 특허 : 4 |
An ion source apparatus is disclosed in this invention. The ion source apparatus includes an anode having an interior space for containing a plasma and an opening into the space. The ion source apparatus further includes a hollow cathode within the space. The ion source apparatus further includes a
[ I claim:] [1.] An ion source apparatus comprising:an anode having an interior space for containing a plasma and an opening into said space;a hollow cathode within said space;a dopant ion-source composed of compounds comprising at least one element selected from a group of elements consisting of si
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