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Method of using a compliant process cassette 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/00
출원번호 US-0235091 (1999-01-21)
발명자 / 주소
  • Senn Anthony
출원인 / 주소
  • SCP Global Technologies
대리인 / 주소
    Limbach & Limbach LLP
인용정보 피인용 횟수 : 7  인용 특허 : 14

초록

A cassette for supporting substantially planar objects such as photomasks, glass plates or semiconductor wafers during processing. The cassette is composed of bars connected at each end to an endpiece. Arms which form part of the endpiece are hinged to permit the side bars of the cassette to move in

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A method of supporting a semiconductor wafer using a wafer cassette, the method comprising:loading at least one wafer in a wafer cassette, said at least one wafer being supported by a lower support bar on which the wafer rests, and at least two side bars positioned latera

이 특허에 인용된 특허 (14)

  1. Ohmori Masashi (Itami JPX) Kotoh Satoru (Amagasaki JPX) Nakajima Shinji (Amagasaki JPX), Cleaning apparatus.
  2. Cannizzaro ; Jr. Stephen J. (Boise ID), Liquid agitation and purification system.
  3. Stadler Maximilian (Haiming DEX) Gunter Schwab (Burgkirchen DEX) Romeder Peter (Burghausen DEX), Magazine for holding disk-type workpieces in particular semiconductor wafers during wet-chemical surface treatment in li.
  4. Seiichiro Aigo (3-15-13 ; Negishi,Daito-ku Tokyo JPX), Over-flow tank for a semiconductor wafer washing apparatus.
  5. Blome Eugene R. (San Jose CA), Processing, shipping and/or storage container for photomasks and/or wafers.
  6. Quernemoen Daniel R. (Chaska MN), Reinforced carrier with embedded rigid insert.
  7. Ohmori Masashi (Itami JPX) Tanaka Hiroshi (Itami JPX) Nishimoto Akira (Itami JPX) Sasai Hiroshi (Itami JPX) Fujino Naohiko (Amagasaki JPX) Kotoh Satoru (Amagasaki JPX), Semiconductor cleaning apparatus and wafer cassette.
  8. Lee Steven N. (Irvine CA), Side lifting wafer boat assembly.
  9. Nishi Mitsuo (Kurume JPX) Miyazaki Takanori (Kumamoto JPX) Mukai Eiichi (Kurume JPX) Kamikawa Yuuji (Uto JPX) Tanaka Hiroshi (Kurume JPX), Substrate washing device.
  10. Lee Steven N. (Irvine CA), Wafer boat.
  11. Armstrong Richard J. (Phoenix AZ), Wafer carrier and method.
  12. Kudo Hideo (Fukushima JPX) Uchiyama Isao (Fukushima JPX), Wafer cleaning tank.
  13. Enomoto Tatsuo (Fukushima JPX) Sato Michito (Fukushima JPX) Nezu Shigeyoshi (Selangor MYX), Wafer etching apparatus.
  14. Bracher Bernhard (Balzers LIX), Wafer support.

이 특허를 인용한 특허 (7)

  1. Fishkin, Boris; Sherrard, Michael, Apparatus for cleaning and drying substrates.
  2. Herbst, Tim W.; Maciej, Todd K.; Gast, Tracy A.; Wagener, Thomas J.; Siefering, Kevin L., Edge gripping device for handling a set of semiconductor wafers in an immersion processing system.
  3. Miyazaki,Tadamitsu; Hirayama,Kazuya; Fukunaga,Hisaya; Futamura,Hiroyasu, Method and apparatus for etching disk-like member.
  4. Montierth,Garry L.; Miranda,Henry R.; Maraviov,Sharyl L.; Busnaina,Ahmed A., Method and apparatus to process substrates with megasonic energy.
  5. Christenson, Kurt K.; Rathman, Christina A., Semiconductor wafer cleaning systems and methods.
  6. Achkire, Younes; Lerner, Alexander N; Govzman, Boris; Fishkin, Boris; Sugarman, Michael N; Mavliev, Rashid A; Fang, Haoquan; Li, Shijian; Shirazi, Guy E; Tang, Jianshe, Single wafer dryer and drying methods.
  7. Christenson,Kurt Karl; Lee,Nam Pyo; Michalko,Gary William; Rathman,Christina Ann, Transition flow treatment process and apparatus.
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