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Arc inhibiting wafer holder assembly

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • A47G-019/08
출원번호 US-0376799 (1999-08-18)
발명자 / 주소
  • Smick Theodore H.
  • Andrews Robert S.
  • Cordts
  • III Bernhard F.
출원인 / 주소
  • Ibis Technology Corporation
대리인 / 주소
    Engellenner
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 30

초록

A wafer holder assembly includes first and second main structural members from which first and second wafer-holding arms extend. The first arm is secured to the main structural members by a graphite distal retaining member. The second arm is pivotally biased to a wafer-hold position by a graphite bi

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A wafer holder assembly, comprising:at least one main structural member;a first conductive wafer-holding arm coupled to the assembly by a graphite retaining member having a spring member; anda second wafer-holding arm.

이 특허에 인용된 특허 (30)

  1. White John M. (Hayward CA) Berkstresser David E. (Los Gatos CA) Petersen Carl T. (Fremont CA), Alignment of a shadow frame and large flat substrates on a heated support.
  2. Sherman Arthur (Palo Alto CA), Anti-stick electrostatic chuck for a low pressure environment.
  3. Chan Chung ; Qin Shu, Apparatus and method for hydrogenating polysilicon thin film transistors by plasma immersion ion implantation.
  4. Brickell Christopher G. (Mukilteo WA) Langland Kenneth A. (Seattle WA), Apparatus for detecting proper positioning of objects in a holder.
  5. Rudy Sol (Upland CA), Apparatus for holding a work piece.
  6. Ruffell John P. (Beverly Farms MA) Guerra Michael A. (Exeter ; NH), Apparatus for ion implantation.
  7. Ohori Shinichi,JPX, Device for preventing contacting of wafers in wafer cassette.
  8. Frutiger William A. (Beverly MA), Electrostatic wafer clamp.
  9. Rissman Paul (3509 Laguna Ct. Palo Alto CA 94306) Kruger James B. (164 Kelly Ave. Half Moon Bay CA 94019) Shohet J. Leon (1937 Arlington Pl. Madison WI 53705), Forming a buried insulator layer using plasma source ion implantation.
  10. O\Neill Charles F. (Escondido CA), Horizontal/inclined substrate holder for liquid phase epitaxy.
  11. Wittkower Andrew B. (Rockport MA), Implantation profile control with surface sputtering.
  12. Ahn Chung-sam,KRX ; Hong Sa-mun,KRX, Integrated wafer cassette holder and wafer cassette box.
  13. Mera Kazuo,JPX ; Hashimoto Isao,JPX ; Yamashita Yasuo,JPX ; Fujimoto Minoru,JPX ; Ishiguro Kouji,JPX, Ion injection device and method therefor.
  14. Wittkower Andrew B. (Rockport MA) Ryding Geoffrey (Manchester MA), Isolation lock for workpieces.
  15. Sato Nobuhiko,JPX ; Yonehara Takao,JPX ; Sakaguchi Kiyofumi,JPX, Method for producing semiconductor substrate.
  16. Neukermans Armand P. (Palo Alto CA), Method of making superhard mechanical microstructures.
  17. Chan Chung (Newton MA) Qin Shu (Jamaica Plain MA), Plasma ion implantation hydrogenation process utilizing voltage pulse applied to substrate.
  18. Sandow Peter M. (New Market NH), Prenucleation process for simox device fabrication.
  19. Chang Mei (Cupertino CA) Cheng David (San Jose CA), Process for the plasma treatment of the backside of a semiconductor wafer.
  20. Edwards Alan T. (Corvallis OR) Smith Steven A. (Corvallis OR), Robotic gripper for disk-shaped objects.
  21. Nakai Tetsuya,JPX ; Shinyashiki Hiroshi,JPX ; Yamaguchi Yasuo,JPX ; Nishimura Tadashi,JPX, SOI substrate having monocrystal silicon layer on insulating film.
  22. Tietz James V. ; Bierman Benjamin ; Ballance David S., Semiconductor wafer support with graded thermal mass.
  23. Wittkower Andrew B. (Rockport MA), Simox materials through energy variation.
  24. Dvorsky Randolph Wayne, Substrate support member for uniform heating of a substrate.
  25. Shmookler Simon (San Francisco CA) Weinberg Andrew G. (San Jose CA) McGrath Martin J. (Sunnyvale CA), System and method for automated positioning of a substrate in a processing chamber.
  26. Glavish Hilton F. (Incline Village NV), System and method for magnetic scanning, accelerating, and implanting of an ion beam.
  27. Messer Mark G. (Los Gatos CA) Stark Lawrence R. (San Jose CA), Wafer arm handler mechanism.
  28. Chrisos John M. (Beverly MA) Fowler ; Jr. Bertram F. (Danvers MA) Muka Richard S. (Topsfield MA), Wafer handling apparatus.
  29. Kim Dong-Ho,KRX, Wafer holder.
  30. Blake Julian G. (Beverly Farms MA) Tu Weilin (Natick MA) Stone Dale K. (Haverhill MA) Holden Scott C. (Manchester MA), Wafer sensing and clamping monitor.

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Huang,Chun Kai; Chang,Ming Hui, Adjustable cassette for accommodating substrates and method for adjusting same.
  2. Yokomizo,Kenji, Apparatus and method of securing a workpiece during high-pressure processing.
  3. Bernhard F. Cordts, III ; Julian G. Blake, Coated wafer holding pin.
  4. Keith C. Stevens, Reduction of induced charge in SOI devices during focused ion beam processing.
  5. England, Jonathan Gerald; Muka, Richard Stephen; Arevalo, Edwin A.; Fang, Ziwei; Singh, Vikram, Techniques for temperature-controlled ion implantation.
  6. Leavitt, William; Richards, Steven; Blake, Julian G., Thermosetting resin wafer-holding pin.
  7. Theodore H. Smick ; Geoffrey Ryding ; Bernhard F. Cordts, III ; Robert S. Andrews, Wafer holder for simox processing.
  8. Cordts, III, Bernhard F.; Blake, Julian G., Wafer holding pin.
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