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Semiconductor manufacturing system with getter safety device

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-053/04
출원번호 US-0335801 (1999-06-17)
발명자 / 주소
  • Lorimer D'Arcy H.
  • Applegarth Charles H.
출원인 / 주소
  • Saes Pure Gas, Inc.
대리인 / 주소
    Hickman Coleman & Hughes, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 12

초록

A semiconductor manufacturing system includes a getter-based gas purifier coupled in flow communication with a gas distribution network for a semiconductor fabrication facility. The gas distribution network supplies purified gas to at least one wafer processing chamber in the semiconductor fabricati

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A semiconductor manufacturing system, comprising:a getter-based gas purifier coupled in flow communication with a gas distribution network for a semiconductor fabrication facility, said gas distribution network supplying purified gas to at least one wafer processing chamb

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Christel ; Jr. Conrad (Dryden NY) White ; Jr. Donald H. (Homer NY), Adsorbent fractionator with automatic temperature-sensing cycle control and process.
  2. Harrison Stanley N. (Parker CO), Adsorption-desorption fluid fractionation with cycle phase switching controlled by purge and saturation front conditions.
  3. Lorimer D'Arcy H., Combination cryopump/getter pump and method for regenerating same.
  4. Gold Harris (Lexington MA) Hicks Richard E. (Waban MA) Harvey Andrew C. (Waltham MA) McCoy ; III John F. (Chelmsford MA), Electrically conductive sorption system and method.
  5. Inagaki Shinji (Aichi JPX) Fukushima Yoshiaki (Aichi JPX) Ohta Takashi (Aichi JPX) Okada Akane (Aichi JPX), Fuel-sorbing device using layered porous silica.
  6. Black James B. (Elizabeth PA), Gas drying or fractioning apparatus and method.
  7. Morioka Koji (Tokyo JPX) Ogata Hiromasa (Tokyo JPX) Ohmori Susumu (Tokyo JPX), Gas treating apparatus.
  8. Briesacher Jeffrey L. (Pismo Beach CA) Applegarth Charles H. (San Luis Obispo CA) Lorimer D\Arcy H. (Pismo Beach CA), Method and apparatus for removing residual hydrogen from a purified gas.
  9. Succi Marco (Milan ITX) Solcia Carolina (Milan ITX), Method for determining the end of useful life of a gas purifier and apparatus therefore.
  10. Yeh Wei-kun (Hsinchu TWX) Shiao J. S. (Hsinchu TWX) Chiang A. M. (Hsin-Chu TWX), Method of forming gate oxide by TLC gettering clean.
  11. Manocha Ajit S. (Allentown PA) Rana Virendra V. S. (South Whitehall Township ; Lehigh County PA) Roberts James F. (Allentown PA) Velaga Ankineedu (Allentown PA), Method of integrated circuit manufacturing using deposited oxide.
  12. Lorimer D'Arcy H. ; Applegarth Charles H., Semiconductor manufacturing system with getter safety device.

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Arquin, Pierre J.; Lindahl, Nels W.; Canaan, Mark A., Gas purification system with an integrated hydrogen sorption and filter assembly.
  2. Arquin, Pierre J.; Lindahl, Nels W.; Canaan, Mark A., Gas purification system with an integrated hydrogen sorption and filter assembly.
  3. Billingham, John Fredric; Mahl, Jerry Michael, Process and system for purifying gases.
  4. Billingham,John Fredric; Mahl,Jerry Michael, Process and system for purifying gases.
  5. D'Arcy H. Lorimer ; Charles H. Applegarth, Semiconductor manufacturing system with getter safety device.
  6. Bergman, Jr., Thomas John; Boyer, Rick; Di Santo, Sandro; Hawke, Michael Henry; Pace, Keith Randall; Schulte, Thomas Robert; Warrick, Brian Donald, System for preventing unnecessary shutdown of a high-purity gas production plant.
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