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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0180548 (1999-01-25) |
우선권정보 | EP0201286 (1996-05-10) |
국제출원번호 | PCT/NL97/00265 (1997-05-12) |
§371/§102 date | 19990125 (19990125) |
국제공개번호 | WO-9743033 (1997-11-20) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 6 |
A process for scrubbing a gas containing hydrogen sulphide and/or carbonyl sulphide, in which the spent scrubbing liquid is treated with autotrophic sulphide-oxidizing bacteria capable of oxidizing at high pH, and elemental sulphur is obtained, the elemental sulphur is separated and the treated scru
[ What is claimed is:] [1.] A process for removing hydrogen sulfide and/or carbonyl sulfide from a gas, which comprises:(a) scrubbing the gas with an aqueous scrubbing liquid having a pH of higher than 9.0 to obtain spent scrubbing liquid;(b) biologically treating the spent scrubbing liquid with sul
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