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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0189927 (1998-11-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 17 인용 특허 : 12 |
A method is presented for the vapor deposition of a material film upon a substrate. The method comprises the use of a Jet Vapor Deposition process with a vaporized polymer gas flowing at supersonic velocity. The vaporized polymer gas consists of a carrier gas and a vaporized polymer, such as Parylen
[ What is claimed is:] [1.] A method for the vapor deposition of a material film upon a substrate, comprising the steps of:operating a pump to set an interior of a deposition chamber, having an access port, at a predetermined pressure;positioning a substrate within said deposition chamber interior;p
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