[특허]Embossed monolithic polymer film and process of forming the same

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B32B-003/00 B32B-007/02
출원번호	US-0034105 (1998-03-03)
발명자 / 주소	Chen Zhongshan DiPoto James P.
출원인 / 주소	Tredegar Corporation
대리인 / 주소	Jenkens & Gilchrist, P.C.
인용정보	피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 28

초록 ▼

A thermoplastic film formed of a monolithic polymer and which is embossed. The film has an embossed height of h, a material thickness of t1 at the apex of the embossed height h, and a material thickness of t2 at the base of the film. The film also has a concave cavity below the apex of the embossed height h. The monolithic polymer film is formed using a screen with a perforated pattern. A monolithic polymer is extruded onto the screen in semi-molten film. The screen is rotated such that the film passes over a vacuum slot behind the screen. A vacuum in the vacuum slot pulls the monolithic polymer into the perforated pattern of the screen without perforating the film. The perforated pattern of the screen is transferred to the monolithic polymer film as the film passes over the vacuum slot.

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] A thermoplastic film comprising a monolithic polymer sheet being embossed with apex sections disposed within base sections, said film having first side and a raised side, and said film having an embossed height between the first side of the film at the base sections and t

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