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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0115854 (1998-07-15) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 36 인용 특허 : 26 |
This invention has enabled a new, simple nanoporous dielectric fabrication method. In general, this invention uses a polyol, such as glycerol, as a solvent. This new method allows both bulk and thin film aerogels to be made without supercritical drying, freeze drying, or a surface modification step
[ What is claimed is:] [1.] A method for forming a thin film aerogel on a semiconductor substrate, the method comprising the steps of:a) providing a semiconductor substrate comprising a microelectronic circuit;b) depositing an aerogel precursor sol upon said substrate; wherein said aerogel precursor
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