[특허]Apparatus for supplying liquid in semiconductor manufacturing process

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Apparatus for supplying liquid in semiconductor manufacturing process 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	F04F-001/14
출원번호	US-0370513 (1999-08-06)
우선권정보	TW8104175 (1999-03-17)
발명자 / 주소	Peng Jui-Hung,TWX
출원인 / 주소	Winbond Electronics Corp., TWX
대리인 / 주소	Allen, Dyer, Doppelt, Milbrath & Gilchrist, P.A.
인용정보	피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 4

초록 ▼

An apparatus for supplying a liquid in a semiconductor manufacturing process includes a container storing the liquid therein, and having a gas inlet for introducing a gas and a liquid outlet for discharging the liquid pressurized by the gas, and a first filter connected to the liquid outlet of the container for removing an impurity of the liquid. The container is slopingly positioned so that the liquid outlet of the container is inclined downwardly to allow the liquid to be totally discharged therefrom. The first filter includes a plurality of plates extending outwardly form an inner surface of the first filter for allowing the liquid to be agitated therein, an outlet arranged at the bottom of the first filter for discharging a precipitated impurity, and a plurality of exhaust valves respectively arranged adjacent to the plates for allowing a gaseous impurity to be released therefrom. The apparatus further includes a second filter connected to the first filter for filtering out a residual impurity of the liquid.

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] An apparatus for supplying a liquid in a semiconductor manufacturing process, the apparatus comprising:a container storing said liquid therein, having a gas inlet for introducing a gas, and having a liquid outlet for discharging said liquid pressurized by said gas; anda first filter connected to said outlet of said container for removing an impurity of said liquid, wherein said first filter comprises an outlet arranged at the bottom of said first filter for discharging a precipitated impurity.

이 특허에 인용된 특허 (4)

Lee Gyu-myeung,KRX ; Jang Ill-jin,KRX, Apparatus for spraying photoresist.
상세보기
Lan Ho-Ku,TWX ; Kuo Chen-Cheng,TWX ; Chen Hung-Chih,TWX ; Chen Shih-Shiung,TWX, Liquid dispensing system and method for dispensing.
상세보기
Agnew A. Patrick,CAX ITX T2X 3H6, Onsite petrochemical storage and transport system.
상세보기
Liu Eric,TWX, Photoresist solution storage and supply device.
상세보기

이 특허를 인용한 특허 (2)

Hisao Kamo JP, Solution feeding apparatus and solution feeding method.
상세보기
Vince L. Marinaro ; Ted Wakamiya ; Eric Kent, System and method for purging air bubbles from filters.
상세보기

관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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