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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0218074 (1998-12-22) |
우선권정보 | JP0369158 (1997-12-26) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 4 |
A ceramics dress substrate of the present invention capable of both performances of cutting a cut material with a high accuracy and dressing a diamond cutting grindstone with an excellent cutting property and an reduced wearing amount of the grindstone. This ceramics dress substrate comprises sinter
[ What is claimed is:] [1.] A ceramic dressing substrate which comprises a sintered mixture of ceramic grinding particles and a silicate mineral; said dressing substrate being adhered to a material to be cut with a grindstone, in a cutting processor.
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