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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0263965 (1999-03-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 15 |
The present invention relates generally to a new apparatus and method for forming non-planar surfaces in substrates. More particularly, the invention encompasses an apparatus and a method for fabricating non-planar surfaces in semiconductor substrates wherein at least one zero compression set pad, s
[ What is claimed is:] [1.] A method of forming a substrate having at least one non-planar surface, said method comprising:(a) placing at least one sheet over at least one first plate, wherein at least one of said at least one sheet has at least one non-planar surface,(b) placing at least one substa
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