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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0028460 (1998-02-24) |
우선권정보 | JP0041900 (1997-02-26) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 40 인용 특허 : 2 |
An apparatus suitable for producing semiconductors. The apparatus includes a processing chamber, a first preparatory chamber, and a second preparatory chamber. Workpieces are transferred to the processing chamber for processing in a vacuum. The first and second preparatory chambers are used for tran
[ What is claimed is:] [1.] An apparatus for handling wafer-like workpieces, wherein the apparatus comprises:a processing chamber to which a workpiece is transferred and for performing a predetermined process on the workpiece;a first preparatory chamber and a second preparatory chamber for transferr
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