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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0741272 (1996-10-30) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 54 인용 특허 : 13 |
An apparatus for converting PFC gases exhausted from semiconductor processing equipment to less harmful, non-PFC gases. One embodiment of the apparatus includes a silicon filter and a plasma generation system. The plasma generation system forms a plasma from the effluent PFC gases. Constituents from
[ What is claimed is:] [1.] An apparatus for reducing perfluorocompound (PFC emissions from a processing chamber, said apparatus comprising:a vessel chamber, defining a fluid conduit having an inlet port and an outlet port;a PFC oxidizing agent in said fluid conduit; anda plasma generation system ca
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