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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0324695 (1999-06-02) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 47 인용 특허 : 26 |
An attachment surface for an implantable device has a random irregular pattern formed through a repetitive masking and chemical milling process. Additionally, an attachment surface for an implantable device has a random irregular pattern formed through a repetitive masking and electrochemical millin
[What is claimed is:] [1.]a) masking said surface portion in a random pattern with a maskant material, such that less than the entire surface portion is covered thereby;b) electrochemically etching said surface portion such that said substrate material is removed thereby in areas uncovered by said m
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