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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0373792 (1999-08-09) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 167 인용 특허 : 2 |
This invention provides a method and solution for the electroless deposition of Co(P) with a designed coercivity via the programmed addition of supporting electrolytes comprising such sulfur containing compounds as sulfamic acid, potassium sulfate or sodium sulfate to a solution having a source of c
[Having thus described our invention what we claim as new and desire to secure as Letters Patent, is:] [1.](a) preparing an electroless plating solution consisting essentially of a source of cobalt ions, a source of citrate ions, a buffering compound to stabilize the pH of said plating solution, a s
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