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Clean box, clean transfer method and apparatus therefor 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B65G-049/00
출원번호 US-0294006 (1999-04-19)
발명자 / 주소
  • Miyajima Toshihiko,JPX
출원인 / 주소
  • TDK Corporation, JPX
대리인 / 주소
    Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 27  인용 특허 : 6

초록

Using a clean box comprising a box body having an aperture in one side surface, a side lid for hermetically closing the aperture, and gas inlet and outlet valves provided in the box body and having neither an evacuation device nor a transfer device, the gas inlet and outlet valves are opened by a ga

대표청구항

[What is claimed is:] [1.]providing a clean box comprising a box body having an aperture in one surface, a lid configured to close said aperture hermetically, a gas inlet valve and a gas outlet valve provided in said box body, and a groove formed between said box body and said lid such that a suctio

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Takahashi Tetsuo (Akita JPX) Miyauchi Eisaku (Akita JPX) Miyajima Toshihiko (Saku JPX) Watanabe Hideaki (Akita JPX), Apparatus for clean transfer of objects.
  2. Masujima Sho,JPX ; Miyauchi Eisaku,JPX ; Miyajima Toshihiko,JPX ; Watanabe Hideaki,JPX, Clean transfer method and apparatus therefor.
  3. Takahashi Tetsuo (Akita JPX) Miyauchi Eisaku (Akita JPX) Miyajima Toshihiko (Saku JPX), Clean transfer method and system therefor.
  4. Fosnight William J. ; Bonora Anthony C. ; Martin Raymond S. ; Tatro Jay, Evacuation-driven SMIF pod purge system.
  5. Bonora Anthony C. ; Wartenbergh Robert P. ; Gomes Christopher, Two stage valve for charging and/or vacuum relief of pods.
  6. Foster Leonard W. (Richardson TX) Millis Edwin G. (Dallas TX), Vented vacuum semiconductor wafer cassette.

이 특허를 인용한 특허 (27)

  1. Sato, Yoshinori, Board storage container and check valve.
  2. Toshihiko Miyajima JP, Clean box, clean transfer method and apparatus therefor.
  3. Miyajima, Toshihiko; Okabe, Tsutomu, Clean box, clean transfer method and system.
  4. Miyajima, Toshihiko; Okabe, Tsutomu, Clean box, clean transfer method and system.
  5. Swider,John T., Closed loop system and method for air sampling of mail products.
  6. Hu, Tain-Chen; More, Ming Te; Lee, Wei William, Container flush and gas charge system and method.
  7. Lo, Hsaio-Chia, Gas charging check valve and precision container apparatus with gas charging check valve.
  8. Emoto, Jun; Iwamoto, Tadamasa, Gas purge apparatus, load port apparatus, installation stand for purging container, and gas purge method.
  9. Iwamoto, Tadamasa, Gas purge apparatus, load port apparatus, installation stand for purging container, and gas purge method.
  10. Sakashita,Yoshihiko; Watanabe,Katsumi; Oshiba,Hisanori; Sarumaru,Shogo; Muraoka,Yusuke; Saito,Kimitsugu; Mizobata,Ikuo; Kitakado,Ryuji, High pressure processing apparatus and high pressure processing method.
  11. Sakashita,Yoshihiko; Watanabe,Katsumi; Oshiba,Hisanori; Sarumaru,Shogo; Muraoka,Yusuke; Saito,Kimitsugu; Mizobata,Ikuo; Kitakado,Ryuji, High pressure processing method.
  12. Natsume, Mitsuo; Kawahisa, Shin; Mizokawa, Takumi, Load port.
  13. Spiegelman, Jeffrey J.; Alvarez, Jr., Daniel; Holmes, Russell J.; Tram, Allan, Method for the removal of airborne molecular contaminants using oxygen and/or water gas mixtures.
  14. Shah, Vinay K.; Englhardt, Eric; Hudgens, Jeffrey C.; Elliott, Martin R., Methods and loadport apparatus for purging a substrate carrier.
  15. Shah, Vinay K.; Englhardt, Eric; Hudgens, Jeffrey C.; Elliott, Martin R., Methods and loadport for purging a substrate carrier.
  16. Otsuka, Hiroshi; Kawamura, Shinsuke; Yoshimoto, Tadahiro, Processing facility.
  17. Tieben, Anthony Mathius; Halbmeier, David L.; Kolbow, Steven P., Purge system for a substrate container.
  18. Rice, Michael Robert; Hudgens, Jeffrey C., Sealed substrate carriers and systems and methods for transporting substrates.
  19. Tieben, Anthony Mathius; Lystad, John; Halbmaier, David L., Substrate container with fluid-sealing flow passageway.
  20. Tieben,Anthony Mathius; Lystad,John; Halbmaier,David L., Substrate container with fluid-sealing flow passageway.
  21. Yachi, Masamichi, Substrate processing apparatus, method of processing substrate, and method of manufacturing semiconductor device.
  22. Mimura, Hiroshi; Niiya, Wataru; Yajima, Toshitsugu, Substrate storage container.
  23. Sumi, Atsushi; Toda, Junya; Nakayama, Takayuki, Substrate storage container.
  24. Sumi, Atsushi; Toda, Junya; Nakayama, Takayuki, Substrate storage container.
  25. Sumi,Atsushi; Toda,Junya; Nakayama,Takayuki, Substrate storage container.
  26. Wisniewski,Michael A.; Stradley,Eugene, System and method for biohazard detection using compression.
  27. Keam, YongHwan; McClendon, Marc; Roy, Jaison; Jawad, Qasim; Gonzales, Matt; Ko, DongYoung; Chang, Sean, Vacuum-assisted vessel environmental contaminant purging.
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