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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0117827 (1999-03-16) |
우선권정보 | JP0022737 (1996-02-08) |
국제출원번호 | PCT/JP97/00344 (1997-02-10) |
§371/§102 date | 19990316 (19990316) |
국제공개번호 | WO-9728965 (1997-08-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 20 인용 특허 : 8 |
A process for producing a protective layer or a primer layer for a heat-generating resistor for a thermal head by sputtering using a target comprising a sinter of a silicon nitride/silicon dioxide/magnesium oxide powder. By regulating the particle diameter of the powder, the target is prevented from
[What is claimed is:] [8.]a supporting substrate;a glaze glass layer disposed an the supporting substrate;a primer layer for a heat-generating resistor, which is formed on the glaze glass layer by sputtering with a sinter of powder, which comprises silicon nitride, silicon dioxide and magnesium oxid
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