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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0295822 (1999-04-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 38 인용 특허 : 21 |
In a specific embodiment, the present invention provides a novel process for smoothing a surface of a separated film. The present process is for the preparation of thin semiconductor material films. The process includes a step of implanting by ion bombardment of the face of the wafer by means of ion
[What is claimed is:] [1.]implanting by ion bombardment of the face of said wafer by means of ions creating in the volume of said wafer at a depth close to the average penetration depth of said ions, a layer of gaseous microbubbles defining in the volume of said wafer a lower region constituting a m
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