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Liquid crystal display device and manufacturing method thereof 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G02F-001/133
  • G02F-001/133
출원번호 US-0697277 (1996-08-27)
우선권정보 JP0249515 (1995-09-27)
발명자 / 주소
  • Hiraishi Youichi,JPX
  • Tagusa Yasunobu,JPX
  • Shimada Takayuki,JPX
출원인 / 주소
  • Sharp Kabushiki Kaisha, JPX
대리인 / 주소
    Nixon & Vanderhye P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 20  인용 특허 : 8

초록

A liquid crystal display device is provided with a switching element in neighborhoods of crossing points of a gate wiring and a data wiring. An interlayer insulating film is provided on the switching element. A pixel electrode connected with the switching element is provided on the interlayer insula

대표청구항

[What is claimed is:] [1.]a liquid crystal layer including therein at least one first spacer maintaining a thickness of the liquid crystal layer;a first substrate provided on a first side of the liquid crystal layer;a second substrate including an interlayer insulating film having the same or greate

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Noda Kazuhiro (Kanagawa JPX) Nakamua Shinji (Tokyo JPX) Hayashi Hisao (Kanagawa JPX) Kadota Hisashi (Kanagawa JPX), Active-matrix substrate.
  2. Sekimura Nobuyuki (Kawasaki JPX) Yoshida Akio (Fujisawa JPX) Kuribayashi Masaki (Higashi-kurume JPX) Kamio Masaru (Atsugi JPX) Takao Hideaki (Sagamihara JPX) Murata Tatsuo (Atsugi JPX), FLC device with color filter and insulating protection layer with pencil hardness of at least HB.
  3. Ohnuma Kenji (Isehara JPX) Suzuki Masaaki (Yokohama JPX) Danjoh Keishi (Yokohama JPX), Ferroelectric liquid crystal display with seal larger than cell gap plus half color filter thickness and 1.2-5mm from fi.
  4. den Boer Willem (Troy MI) Zhong John Z. Z. (Troy MI) Gu Tieer (Troy MI), LCD with bus lines overlapped by pixel electrodes and photo-imageable insulating layer therebetween.
  5. Rho Bong G. (Kyungsangbook KRX), Liquid crystal display elements with spacers attached to insulation and orientation layers and method for manufacturing.
  6. Wakai Haruo (Fussa JPX) Yamamura Nobuyuki (Hachioji JPX) Sato Syunichi (Kawagoe JPX) Kanbara Minoru (Hachioji JPX), Method of manufacturing a thin film transistor.
  7. Wakai Haruo (Tokyo JPX) Yamamura Nobuyuki (Tokyo JPX) Sato Syunichi (Kawagoe JPX) Kanbara Minoru (Tokyo JPX), Thin film transistor and method of manufacturing the same.
  8. Sasaki Makoto (Tokyo JPX) Sato Syunichi (Kawagoe JPX) Mori Hisatoshi (Fussa JPX), Thin film transistor panel and manufacturing method thereof.

이 특허를 인용한 특허 (20)

  1. Yamazaki, Shunpei; Hirakata, Yoshiharu, Display device.
  2. Hara, Yoshihito; Nakata, Yukinobu, Display device and method for fabricating same.
  3. Kim,Sang In; Park,Il Ryong, Liquid crystal display and fabricating method comprising a hydrophilic buffer layer having a thickness of 10Å to 50Å.
  4. Youichi Hiraishi JP; Yasunobu Tagusa JP; Takayuki Shimada JP, Liquid crystal display device.
  5. Ishikawa, Masato; Minami, Akira; Saito, Kenji, Liquid crystal display device having guide patterns provided at a periphery of a substrate.
  6. Kurasawa, Hayato, Liquid crystal display device with larger cell gap formed outside display area.
  7. Kurasawa, Hayato, Liquid crystal display device with larger cell gap formed outside display area.
  8. Takamatsu, Hideaki; Matsuno, Fumihiko, Manufacturing process of liquid crystal display device, and liquid crystal display device.
  9. Sasaki,Takeshi, Method for fabricating a liquid crystal panel comprising spacers having an initial size larger than an appropriate cell gap.
  10. Zhang, Hongyong, Method of fabricating semiconductor device.
  11. Zhang, Hongyong, Method of fabricating semiconductor device.
  12. Zhang, Hongyong, Method of fabricating semiconductor device.
  13. Zhang, Hongyong, Method of fabricating semiconductor device.
  14. Stephen A. Ezzell ; Hassan Sahouani ; Ernest L. Thurber, Polyimide angularity enhancement layer.
  15. Yamazaki, Shunpei; Fukunaga, Takeshi, Semiconductor device and method of fabricating same.
  16. Hirakata, Yoshiharu; Goto, Yuugo; Kobayashi, Yuko; Yamazaki, Shunpei, Semiconductor device and method of fabricating the same.
  17. Hirakata, Yoshiharu; Goto, Yuugo; Kobayashi, Yuko; Yamazaki, Shunpei, Semiconductor device and method of fabricating the same.
  18. Hirakata, Yoshiharu; Goto, Yuugo; Kobayashi, Yuko; Yamazaki, Shunpei, Semiconductor device and method of fabricating the same.
  19. Hirakata, Yoshiharu; Goto, Yuugo; Kobayashi, Yuko; Yamazaki, Shunpei, Semiconductor device and method of fabricating the same.
  20. Takayuki Shimada JP; Masaru Kajitani JP; Masaya Okamoto JP; Naofumi Kondo JP; Mikio Katayama JP; Yoshikazu Sakuhana JP; Akihiro Yamamoto JP; Yukinobu Nakata JP; Hirohiko Nishiki JP, Transmission type liquid crystal display having a transparent colorless organic interlayer insulating film between pixel electrodes and switching.
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