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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0074589 (1998-05-08) |
우선권정보 | JP0122525 (1997-05-13) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 15 인용 특허 : 17 |
Therefore, these parts are mounted on a mass flow controller as a unit and the process gas unit can be made compact and integrated as a whole.
[What is claimed is:] [1.]a supply valve for supplying process gas to the semiconductor manufacturing apparatus;a purge valve for supplying inert gas;a check valve disposed in a passage between an inert gas source and the purge valve;a single-piece manifold, the supply valve, the purge valve and the
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