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Process gas supply unit 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F16K-051/00
출원번호 US-0074589 (1998-05-08)
우선권정보 JP0122525 (1997-05-13)
발명자 / 주소
  • Itoh Masahito,JPX
  • Inagaki Toshiyasu,JPX
출원인 / 주소
  • CKD Corporation, JPX
대리인 / 주소
    Finnegan, Henderson, Farabow, Garrett & Dunner, L.L.P.
인용정보 피인용 횟수 : 15  인용 특허 : 17

초록

Therefore, these parts are mounted on a mass flow controller as a unit and the process gas unit can be made compact and integrated as a whole.

대표청구항

[What is claimed is:] [1.]a supply valve for supplying process gas to the semiconductor manufacturing apparatus;a purge valve for supplying inert gas;a check valve disposed in a passage between an inert gas source and the purge valve;a single-piece manifold, the supply valve, the purge valve and the

이 특허에 인용된 특허 (17)

  1. Markulec Jeffrey R. ; Rex Dennis G. ; Schuster Richard E. ; Elliot Brent D., Building blocks for integrated gas panel.
  2. George Mark (23 N. 12th St. Allentown PA 18102), Delivery of reactive gas from gas pad to process tool.
  3. Ohmi Tadahiro,JPX ; Hirao Keiji,JPX ; Yamaji Michio,JPX ; Itoi Shigeru,JPX ; Shinohara Tsutomu,JPX ; Ikeda Nobukazu,JPX ; Morokoshi Hiroshi,JPX ; Kojima Tetsuya,JPX, Fluid control apparatus.
  4. Ohmi Tadahiro,JPX ; Hirao Keiji,JPX ; Minami Yukio,JPX ; Yamaji Michio,JPX ; Hirose Takashi,JPX ; Ikeda Nobukazu,JPX, Fluid control device.
  5. Kumada Masatoshi (Kawasaki JPX), Gas handling device assembly used for a CVD apparatus.
  6. Redemann Eric J. ; Vu Kim N., Gas panel.
  7. Yokogi Kazuo,JPX, Gas supply system equipped with cylinders.
  8. Itafuji Hiroshi,JPX, Gas supply unit.
  9. Strong ; Jr. Benjamin R. (Sunnyvale CA) Elliot Brent D. (Santa Clara CA) Balma Frank R. (San Jose CA), Integrated gas panel.
  10. Nimberger Spencer M., Low profile flanged manifold valve.
  11. Hiraoka Hidetaka (Shizuoka JPX) Morinaka Mayuki (Shizuoka JPX) Kubota Yasushi (Shizuoka JPX), Methods for inspecting the content of structure modifying additives in molten cast iron and chilling tendency of flaky g.
  12. Brzezicki Joseph M. ; DiBiase Thomas E. ; Mohlenkamp Michael J. ; Olechnowicz Benjamin J. ; Papa Richard T. ; Sprafka Brian K. ; Zeiler Daniel E., Modular block assembly using angled fasteners for interconnecting fluid components.
  13. Ritrosi Joe ; Schmitt Gary ; Quintino Carl ; Kasper Gerhard, Purgeable connection for gas supply cabinet.
  14. Ohmi Tadahiro,JPX ; Yamaji Michio,JPX ; Ikeda Nobukazu,JPX ; Hatano Masayuki,JPX ; Yokoyama Kosuke,JPX ; Tanaka Shigeaki,JPX, Shutoff-opening devices and fluid control apparatus comprising such devices.
  15. Graffunder Horst (Berlin DEX) Wittmann Brigitte (Berlin DEX) Kohls Heinz (Berlin DEX), Valve arrangement for distributing fluids.
  16. Hutton Peter B.,CAX ITX T2E 6Z5, Valve manifold system.
  17. DuRoss Ronald R. (Huntsville AL) Tucker William K. (Cherry Hill NJ), Zero dead-leg gas control apparatus and method.

이 특허를 인용한 특허 (15)

  1. Loeffler, Stephen D.; Wolf, Seth B.; Albrecht, Charles W., Close-coupled purgeable vaporizer valve.
  2. Barker,Joseph Raymond; Botelho,Alexandre De Almeida; Collins,John Timothy; Toth,Andrew Joseph; Pearlstein,Ronald Martin, Enhanced purge effect in gas conduit.
  3. Kitamura, Masato; Noda, Toshiaki; Katsuki, Masumi; Natsume, Hideko, Evacuation and inert gas introduction apparatus.
  4. Vu, Kim Ngoc, Extreme flow rate and/or high temperature fluid delivery substrates.
  5. Yasuda, Tadahiro, Fluid controller.
  6. Vu, Kim Ngoc, Fluid delivery substrates for building removable standard fluid delivery sticks.
  7. Igarashi, Hiroki, Fluidic device unit structure.
  8. Igarashi, Hiroki, Fluidic device unit structure.
  9. Zheng, Dao-Hong; Irven, John; George, Mark Allen, Gas control device and method of supplying gas.
  10. Eric J. Redemann ; Kim N. Vu, Gas panel.
  11. Eidsmore, Paul G., In line flow control components and systems.
  12. Okabe,Tsuneyuki; Okura,Shigeyuki; Doi,Hiroki; Ito,Minoru; Mori,Yoji; Nishimura,Yasunori, Liquid raw material supply unit for vaporizer.
  13. Paul Francis Grosshart, Manifold for modular gas box system.
  14. Manofsky, Jr., William L.; Redemann, Eric J.; Julian, Donald H., Manifold system for gas and fluid delivery.
  15. Vu,Kim, Modular substrate gas panel having manifold connections in a common plane.
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