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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0976961 (1997-11-24) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 19 인용 특허 : 16 |
The present invention provides methods and systems for forming deposition films on semiconductor wafers. In particular, the present invention measures the amount of liquid remaining in a bubbler ampule of a semiconductor processing system used for chemical vapor deposition (CVD) on a semiconductor w
[ What is claimed is:] [1.]1. A method for determining the level of a liquid in a container comprising the steps of:introducing a process gas through a gas inlet of the container into a liquid within the container;flowing the process gas through a gas outlet of the container into a semiconductor pro
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