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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0157427 (1998-09-21) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 16 인용 특허 : 10 |
A process for restoring the injectivity or productivity of a well penetrating a subterranean formation by injecting a micelle treating fluid into the subterranean formation via the well with the micelle treating fluid containing a 2% potassium chloride water solution and a mutual solvent containing
[ I claim:] [1.]1. A process for restoring the injectivity or productivity of a well penetrating a subterranean formation and defining a well bore and a well bore face, the injectivity or productivity of the well being reduced by an accumulation of an asphaltene precipitate on the well bore face or
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