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Wafer transfer system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/00
출원번호 US-0265490 (1999-03-09)
발명자 / 주소
  • Toshima Masato
출원인 / 주소
  • Gamma Precision Technology, Inc.
대리인 / 주소
    Lyon & Lyon LLP
인용정보 피인용 횟수 : 15  인용 특허 : 12

초록

A wafer transfer system is described for transferring a wafer while at substantially the same time another wafer is being processed. The wafer transfer system comprises, in one embodiment, a transfer chamber having a wafer transfer blade, a load lock chamber coupled to the transfer chamber, a robot

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.]1. A device for processing a plurality of wafers, comprising:a transfer chamber within which processing of said plurality of wafers takes place;a load lock chamber coupled to said transfer chamber;a plurality of stages located within and coupled to said transfer chamber, s

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Maeda Kazuo (Tokyo JPX) Ohira Kouichi (Tokyo JPX) Hirose Mitsuo (Tokyo JPX), Apparatus for manufacturing semiconductor device.
  2. Boys Donald R. (Cupertino CA) Graves Walter E. (San Jose CA), Dial deposition and processing apparatus.
  3. Campbell Gregor A. (Glendale CA) Conn Robert W. (Los Angeles CA) Katz Dan (Beverly Hills CA) Parker N. William (Fairfield CA) de Chambrier Alexis (Glendale CA), High density plasma deposition and etching apparatus.
  4. Maydan Dan (Los Altos Hills CA) Somekh Sasson (Redwood City CA) Wang David N. (Cupertino CA) Cheng David (San Jose CA) Toshima Masato (San Jose CA) Harari Isaac (Mountain View CA) Hoppe Peter D. (Sun, Multichamber integrated process system.
  5. Higashi Kumiko (Kumamoto JPX), Rotary type apparatus for processing semiconductor wafers and method of processing semiconductor wafers.
  6. Begin Robert George ; Clarke Peter J., System for providing a controlled deposition on wafers.
  7. Toshima Masato (Campbell CA), Vacuum chamber slit valve.
  8. Dimock Jack A. (Santa Barbara CA) Woestenburg Dirk P. (Summerland CA), Wafer processing machine with evacuated wafer transporting and storage system.
  9. Toshima Masato, Wafer transfer system and method of using the same.
  10. Toshima Masato, Wafer transfer system and method of using the same.
  11. Toshima Masato, Wafer transfer system and method of using the same.
  12. Somekh Sasson (Los Altos Hills CA) Fairbairn Kevin (Saratoga CA) Kolstoe Gary M. (Fremont CA) White Gregory W. (San Carlos CA) Faraco ; Jr. W. George (Saratoga CA), Wafer tray and ceramic blade for semiconductor processing apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (15)

  1. Lee, Tong-hun, Automated-guided vehicle system and method for controlling the same.
  2. Lee,Jae Chull; Berkstresser,David, Curved slit valve door with flexible coupling.
  3. Lee, Jae-Chull; Kurita, Shinichi; White, John M.; Anwar, Suhail, Decoupled chamber body.
  4. Kurita, Shinichi; Blonigan, Wendell T., Double dual slot load lock chamber.
  5. Kurita, Shinichi; Blonigan, Wendell T.; Hosokawa, Akihiro, Dual substrate loadlock process equipment.
  6. Shan, Hongqing, Gas flow division in a wafer processing system having multiple chambers.
  7. Kurita, Shinichi; Blonigan, Wendell T.; Tanase, Yoshiaki, Large area substrate transferring method for aligning with horizontal actuation of lever arm.
  8. Kurita,Shinichi; Blonigan,Wendell T.; Tanase,Yoshiaki, Load lock chamber for large area substrate processing system.
  9. Kurita,Shinichi; Blonigan,Wendell T., Load lock chamber having two dual slot regions.
  10. Lee, Jae-Chull; Anwar, Suhail; Kurita, Shinichi, Load lock chamber with decoupled slit valve door seal compartment.
  11. Kurita,Shinichi; Blonigan,Wendell T., Method for transferring substrates in a load lock chamber.
  12. Kurita, Shinichi; Anwar, Suhail; Lee, Jae-Chull, Multiple slot load lock chamber and method of operation.
  13. Antonelli, George Andrew; O'Loughlin, Jennifer; Xavier, Tony; Sriram, Mandyam; van Schravendijk, Bart; Rangarajan, Vishwanathan; Varadarajan, Seshasayee; Buckalew, Bryan L., Remote plasma processing of interface surfaces.
  14. Su, Yuh-Jia; Chen, David Lee; Decaux, Vincent Bernard, Single-tube interlaced inductively coupling plasma source.
  15. Kim, Sam Hyungsam; Lee, Jae-Chull; Sterling, William N.; Brown, Paul, Valve door with ball coupling.
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