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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0164389 (1998-09-30) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 11 인용 특허 : 13 |
Methods and apparatus for ascertaining the end of an etch process while etching through a target layer on a substrate in a plasma processing system which employs an electrostatic chuck. The end of the etch process is ascertained by monitoring the electric potential of the substrate to detect a patte
[ What is claimed is:] [1.]1. A method for ascertaining an end of an etch process while etching through a target layer on a substrate in a plasma processing system, said plasma processing system including an electrostatic chuck having a first pole, a first DC power supply coupled to said first pole
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