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Optical illumination system and associated exposure apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03B-027/42
  • G03B-027/72
출원번호 US-0085970 (1998-05-27)
발명자 / 주소
  • Yen Anthony
  • Dutta Barundeb,BEX
출원인 / 주소
  • Texas Instruments Incorporated
대리인 / 주소
    Valetti
인용정보 피인용 횟수 : 24  인용 특허 : 8

초록

An embodiment of the instant invention is an optical illumination system for illuminating the mask of an exposure apparatus for transferring the image of the pattern on the mask onto the semiconductor wafer, the optical illumination system comprising: illumination means (illumination means 45 of FIG

대표청구항

[ We claim:] [1.]1. An optical illuminating system for transferring a pattern on a mask onto a wafer, said optical illumination system comprising:a plurality of controllable light sources, each said light source capable of emitting an individual light beam along a beam path to provide a light beam a

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Goldmann Gerd,DEX, Arrangement and process for generating a matrix image on a photosensitive recording substrate.
  2. Morishige Yukio (Tokyo JPX), Exposure apparatus for drawing patterns on substrates.
  3. Omata Takashi (Yokosuga JPX), Illumination optical system.
  4. Aiyer Arun A. (Fremont CA), Illumination source and method for microlithography.
  5. Brauch Uwe,DEX ; Opower Hans,DEX ; Hoefflinger Bernd,DEX ; Springer Reinhard,DEX, Lithography exposure device.
  6. McFadden Thomas A. (Mountain View CA), Programmable light control matrix device.
  7. Takeda Minoru (Kanagawa JPX) Kubota Shigeo (Kanagawa JPX) Oka Michio (Kanagawa JPX) Ogawa Tohru (Kanagawa JPX), Semiconductor light exposure device.
  8. Owa Soichi,JPX, Ultraviolet laser source.

이 특허를 인용한 특허 (24)

  1. Onvlee, Johannes; Dierichs, Marcel Mathijs Theodore Marie, Controllable radiation lithographic apparatus and method.
  2. Melikechi, Noureddine; Pradhan, Ranjit D., Device for curing photosensitive dental compositions with off-axis lens and method of curing.
  3. Singer,Wolfgang; Antoni,Martin; Dieckmann,Nils; Rothweiler,Dirk; Schultz,J��rg, EUV illumination system having a plurality of light sources for illuminating an optical element.
  4. Tyminski, Jacek K., Enhanced illuminator for use in photolithographic systems.
  5. Tyminski, Jacek K., Enhanced illuminator for use in photolithographic systems.
  6. Kim, Jong Il; Song, Byung Duck; Kim, Jong Dam, Exposure method and exposure apparatus for photosensitive film.
  7. Rothweiler,Dirk; Schultz,J철rg, Illumination system with a plurality of light sources.
  8. Schultz, Jorg; Rothweiler, Dirk, Illumination system with a plurality of light sources.
  9. Bleeker, Arno Jan; De Jager, Pieter Willem Herman; Hintersteiner, Jason Douglas; Kruizinga, Borgert; McCarthy, Matthew Eugene; Oskotsky, Mark; Ryzhikov, Lev; Sakin, Lev; Smirnov, Stanislav; Snijders,, Imaging apparatus.
  10. Bleeker,Arno Jan; De Jager,Pieter Willem Herman; Hintersteiner,Jason Douglas; Kruizinga,Borgert; McCarthy,Matthew Eugene; Oskotsky,Mark; Ryzhikov,Lev; Sakin,Lev; Smirnov,Stanislav; Snijders,Bart; Van, Imaging apparatus.
  11. Bleeker,Arno Jan, Lithographic apparatus and device manufacturing method.
  12. Melikechi,Noureddine; Pandher,Ranjt S., Method for photo-curing polymerizable compositions.
  13. Melikechi,Noureddine; Pandher,Ranjit S., Method for photo-curing polymerizable compositions with pulsed light.
  14. Shields, Andrew James, Optical device and method for its manufacture.
  15. Dinger, Udo, Optical element with multiple primary light sources.
  16. Chen, Jang Fung; Laidig, Thomas, Optical imaging writer system.
  17. Greve,Peter Ferdinand; Vermeulen,Olaf Thomas Johan Antonie, Output stabilization for a laser matrix.
  18. Xu,Duanyi; Qi,Guosheng; Jiang,Peijun; Fan,Xiaodong; Qian,Kun, Photolithography system having multiple adjustable light sources.
  19. Koide,Jun, Projection type image display apparatus and display device.
  20. Smeets, Dries; Bleeker, Arno Jan; Lee, Christopher James; De Jager, Pieter Willem Herman; Mulder, Heine Melle; Pellens, Rudy Jan Maria, Radiation modulator for a lithography apparatus, a lithography apparatus, a method of modulating radiation for use in lithography, and a device manufacturing method.
  21. Malach, Joseph D; Webb, James Edson, Solid-state array for lithography illumination.
  22. Chen, Jang Fung; Laidig, Thomas, System and method for manufacturing multiple light emitting diodes in parallel.
  23. Chen, Jang Fung; Laidig, Thomas, System and method for manufacturing three dimensional integrated circuits.
  24. Shih, Jaw-Lih; Chou, Hong-Hsing; Wang, Yeh-Chieh; Chang, Hsin-Kuo; Chen, Chung-Nan; Cheng, Kuang Hsiung, Ultraviolet light emitting diode array light source for photolithography and method.
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