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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0085970 (1998-05-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 24 인용 특허 : 8 |
An embodiment of the instant invention is an optical illumination system for illuminating the mask of an exposure apparatus for transferring the image of the pattern on the mask onto the semiconductor wafer, the optical illumination system comprising: illumination means (illumination means 45 of FIG
[ We claim:] [1.]1. An optical illuminating system for transferring a pattern on a mask onto a wafer, said optical illumination system comprising:a plurality of controllable light sources, each said light source capable of emitting an individual light beam along a beam path to provide a light beam a
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