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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0317629 (1999-05-25) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 11 |
A container for use in a processing chamber to lessen the amount of contaminant particles found within the chamber after processing. The container fits closely within the chamber and includes ports for a gas conduit and a vacuum conduit. The container may be locked to the chamber through a locking m
[ What is claimed as new and desired to be protected by Letters Patent of the United States is:] [1.]1. A system for processing a semiconductor work piece, said system comprising:an enclosed processing chamber having at least one wall and a first access door to an interior space, a vacuum port throu
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