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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0927700 (1997-09-11) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 123 인용 특허 : 37 |
The invention relates to an apparatus and process for the vaporization of liquid precursors and deposition of a film on a suitable substrate. Particularly contemplated is an apparatus and process for the deposition of a metal-oxide film, such as a barium, strontium, titanium oxide (BST) film, on a s
[ What is claimed is:] [1.]1. A process chamber for depositing a film, comprising:a) a chamber body forming an enclosure having one or more temperature controlled surfaces;b) a lid movably mounted on the chamber body, the lid having a heated main body and an outer temperature controlled collar;c) a
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