[특허]Particle-free cathodic arc carbon ion source

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Particle-free cathodic arc carbon ion source 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B01J-019/08
출원번호	US-0467908 (1999-12-21)
우선권정보	CA2256847 (1998-12-22)
발명자 / 주소	Meunier Jean-Luc,CAX Kandah Munther,JOX
출원인 / 주소	McGill University, CAX
대리인 / 주소	Renault
인용정보	피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 6

초록 ▼

A method and apparatus for vacuum arc deposition of carbon on a substrate inhibits or eliminates emission of contaminating carbon particles in the ion plasma by maintaining an elevated local plasma pressure at the cathode or target surface, thereby minimizing the role of heat conduction in the creat

대표청구항 ▼

[ We claim:] [1.]1. A method for vacuum arc deposition of carbon on a substrate comprising:establishing an electric arc between an anode and a cathode in a chamber under vacuum, said cathode having a target surface of non-porous graphite,emitting a plasma of carbon ions from said target surface,depositing said carbon ions on a substrate as an amorphous carbon coating, andmaintaining an elevated local plasma pressure at said target surface effective to minimize the role of heat conduction in said target surface and formation of liquid droplets of carbon, and to promote electron emission cooling effects.

이 특허에 인용된 특허 (6)

Selifanov Oleg Vladimirovich (Apt. 52 ; Bldg. 6 Sosny Minsk BYX 220109 ) Tochitsky Eduard Ivanovich (Apt. 188 ; Bldg. 15 Kulman Str. Minsk BYX 220100 ) Akulich Valerii Vladimirovich (Apt. 40 ; Block , Abrasive material for precision surface treatment and a method for the manufacturing thereof.
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Shi Xu,SGX ; Flynn David Ian,GBX ; Tay Beng Kang,SGX ; Tan Hong Siang,MYX, Filtered cathodic arc source.
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O\Neill David G. (Woodbury MN) Storer Jonathan G. (Mendota Heights MN), Method for forming macroparticle-free DLC films by cathodic arc discharge.
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Veerasamy Vijayen ; Weiler Manfred,DEX ; Li Eric, Method for producing recording media having protective overcoats of highly tetrahedral amorphous carbon.
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Friedmann Thomas A. ; Sullivan John P., Method of forming a stress relieved amorphous tetrahedrally-coordinated carbon film.
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Sathrum Paul E. ; Coll Bernard F., Plasma enhancement apparatus and method for physical vapor deposition.
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이 특허를 인용한 특허 (9)

Brondum, Klaus; Welty, Richard P.; Jonte, Patrick B.; Richmond, Douglas S.; Thomas, Kurt, Faucet.
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Brondum, Klaus; Welty, Richard P.; Jonte, Patrick B.; Richmond, Douglas S., Faucet component with coating.
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Brondum, Klaus; Welty, Richard P.; Jonte, Patrick B.; Richmond, Douglas S., Faucet component with coating.
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Brondum, Klaus; Welty, Richard P.; Jonte, Patrick B.; Richmond, Douglas S., Faucet component with coating.
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Brondum, Klaus, Faucet with wear-resistant valve component.
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Sato, Takayasu; Obayashi, Hidenori, Fuel cell separator, manufacturing method of the fuel cell separator, and fuel cell.
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Olafsson, Sveinn, Method and apparatus for processing materials by applying a controlled succession of thermal spikes or shockwaves through a growth medium.
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Brondum, Klaus; Welty, Richard P.; Richmond, Douglas S.; Jonte, Patrick B.; Thomas, Kurt, Valve component for faucet.
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Brondum, Klaus; Welty, Richard P.; Richmond, Douglas S.; Jonte, Patrick B.; Thomas, Kurt, Valve component for faucet.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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