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특허 상세정보

Apparatus and method for trapping a toxic gas

국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) B01D-053/04   
미국특허분류(USC) 950/08 ; 905/025 ; 905/131 ; 906/117 ; 906/131 ; 906/419
출원번호 US-0324431 (1999-06-01)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
대리인 / 주소
    Tung & Associates
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 10

An apparatus and a method for trapping a toxic gas contained in an exhaust gas from a process chamber are disclosed. In the apparatus, two toxic gas traps are provided which are connected in series with a toxic gas sensor provided thereinbetween and in fluid communication with the two traps. When toxic gas is detected by the toxic gas sensor, i.e., an indication that the first toxic gas trap is fully consumed, the second toxic gas trap is used to replace the first toxic gas trap, while a new toxic gas trap is installed as the second toxic gas trap. The p...


[ The embodiment of the invention in which an exclusive property or privilege is claimed are defined as follows:] [1.]1. A method for trapping a toxic gas comprising the steps of:providing a first toxic gas trap equipped with a first inlet and a first outlet,providing a second toxic gas trap equipped with a second inlet and a second outlet,connecting said first outlet to said second inlet by a first conduit having a first toxic gas sensor therein,connecting said second outlet to a gas evacuation device by a second conduit,feeding a toxic gas into said fi...