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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0445169 (1999-12-06) |
우선권정보 | PL0320392 (1997-06-05) |
국제출원번호 | PCT/PL98/00023 (1998-06-03) |
§371/§102 date | 19991206 (19991206) |
국제공개번호 | WO-9855671 (1998-12-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 62 인용 특허 : 2 |
The method of fabrication of highly resistive GaN bulk crystals by crystallization from the solution of atomic nitrogen in the molten mixture of metals, containing gallium in the concentration not lower than 90 at. % and the Periodic Table group II metals: calcium, beryllium or in the concentration
[ We claim:] [1.]1. A method for fabrication of highly resistive GaN bulk crystals comprisingmelting a mixture of semiconductor purity metals, containing gallium in the concentration not lower than 90 atomic percent and a metal selected from the group consisting of beryllium, calcium and mixtures th
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