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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0354303 (1999-07-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 19 |
A method and apparatus for improving etch uniformity in reticle etching by eliminating local effects at the edge of the reticle is disclosed. The present invention relates to a reticle frame which surrounds the reticle. The reticle frames are patterned with a pattern profile similar to that of the r
[ What is claimed is:] [1.]1. A method for etching a reticle comprising:providing a reticle having at least a first light blocking or partially light transmnissive layer thereon and at least a first pattern transfer layer on said first light blocking or partially light transmissive layer;providing a
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