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특허 상세정보

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Process for preparing resists

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) G03C-001/73   
미국특허분류(USC) 430/270.1 ; 430/286.1 ; 430/285.1 ; 430/918
출원번호 US-0308582 (1999-08-05)
우선권정보 JP0275185 (1997-09-22)
국제출원번호 PCT/JP98/03788 (1998-08-26)
§371/§102 date 19990805 (19990805)
국제공개번호 WO-9915935 (1999-04-01)
발명자 / 주소
  • Okazaki Hiroshi,JPX
  • Pawlowski Georg,JPX
  • Funato Satoru,JPX
  • Kinoshita Yoshiaki,JPX
  • Yamaguchi Yuko,JPX
출원인 / 주소
  • Clariant Finance (BVI) Limited, VGX
대리인 / 주소
    Banerjee
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 6
초록
▼

A resist composition is prepared by reacting an alkali-soluble polymer having a phenolic hydroxyl or carboxyl groups with a vinyl ether compound in an aprotic solvent, such as propylene glycol monomethyl ether acetate, in the presence of an acid catalyst, suspending the reaction by the addition of a base, and directly adding a photoacid generator to the reaction solution. When a dialkyl dicarbonate is used in stead of the vinyl ether compound, a resist composition is prepared by carrying out the reaction in the presence of a basic catalyst and adding a p...

대표
청구항
▼

[ What is claimed is:] [1.]1. A method for preparing a resist composition, which comprises the steps of:(I) providing a solution of a resist material made by a process comprising reacting (i) at least one alkali-soluble polymer having a phenolic hydroxyl or carboxyl group with (ii) at least one vinyl ether compound and/or (iii) at least one dialkyl dicarbonate in the presence of a catalyst in an aprotic solvent suitable as a resist coating solvent in which these materials can be dissolved;(II) thereafter, adding at least one photoacid generator to the so...

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Schacht Hans-Thomas,DEX ; Muenzel Norbert,DEX ; Mertesdorf Carl-Lorenz,DEX ; Falcigno Pasquale Alfred,CHX ; Holzwarth Heinz,DEX ; Rohde ; deceased Ottmar,DEX ITX by Li-Chun Tseng-Rohde ; legal repres, Crosslinked polymers.
  2. Sinta Roger F. ; Kumar Uday ; Orsula George W. ; Fahey James I. T. ; Brunsvold William R. ; Huang Wu-Song ; Katnani Ahmad D. ; Nunes Ronald W. ; Khojasteh Mahmoud M., Methods for preparing photoresist compositions.
  3. Mertesdorf Carl-Lorenz,DEX ; Schacht Hans-Thomas,DEX ; Muenzel Norbert,DEX ; Falcigno Pasquale Alfred,CHX, Photoresist compositions.
  4. Schwalm Reinhold (Wachenheim DEX) Binder Horst (Lampertheim DEX), Positive and negative working radiation sensitive mixtures and production of relief patterns.
  5. Mertesdorf Carl-Lorenz (Bad Krozingen DEX) Nathal Bertold (Rodersdorf CHX) Kirner Hans-Jorg (Pratteln CHX), Process for the preparation of partially protected phenolic resins.
  6. Nakamura Shigeo,JPX ; Oshimura Masahiko,JPX ; Mori Kenichi,JPX ; Yokota Tadahiko,JPX ; Koto Hiroyasu,JPX, Resin composition.

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Takeda, Takanobu; Watanabe, Osamu; Hirahara, Kazuhiro; Takemura, Katsuya; Kusaki, Wataru; Seki, Akihiro, Chemical amplification resist compositions.
  2. Nagai,Kouichi; Kanemitsu,Hideyuki, Method of fabricating a semiconductor device.
  3. Nishiyama, Fumiyuki; Fujimori, Toru, Positive resist composition.
  4. Okazaki, Hiroshi; Pawlowski, Georg; Funato, Satoru; Kinoshita, Yoshiaki; Yamaguchi, Yuko, Process for preparing resists.
  5. Sugihara, Masako; Nishimura, Takashi, Resin, resist composition and method for producing resist pattern.
  6. Sugihara, Masako; Nakanishi, Junji, Resist composition and method for producing resist pattern.
  7. Hatakeyama, Jun; Ohsawa, Youichi; Nishi, Tsunehiro; Watanabe, Jun, Resist compositions and patterning process.
  8. Toukhy, Medhat A.; Paunescu, Margareta, Thick film resists.

IPC 상위 출원인