$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Optimized low voltage CMOS operation 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H03K-017/687
출원번호 US-0235007 (1999-01-21)
발명자 / 주소
  • Shoji Masakazu
출원인 / 주소
  • Agere Systems Guardian Corporation
대리인 / 주소
    Istrate Iomescu Jumbepatent.com
인용정보 피인용 횟수 : 19  인용 특허 : 12

초록

Operation of CMOS integrated circuits at a reduced voltage are optimized. A digital system comprises a plurality of P-channel metal oxide field effect transistors and a plurality of N-channel metal oxide field effect transistors arranged in complementary symmetry pairs. The P-channel transistors hav

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.]1. An optimized digital system comprising:a plurality of metal oxide field effect transistors each of said transistors having a drain, a source, a gate, a channel current, and a gate voltage, said channel current and said gate voltage related by an IV plot,said transistors

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Salmon Joseph H. (Placerville CA) Johnson Clyde L. (Rancho Cordova CA), Buffer circuitry for transferring signals from TTL circuitry to dual range CMOS circuitry.
  2. Runas Michael E. (McKinney TX) Patel Kirit B. (Dallas TX), Bus driver/receiver circuitry and systems and methods using the same.
  3. Holloway Peter R., Comparator including a transconducting inverter biased to operate in subthreshold.
  4. Moegen Gerhard (Neubaldham DEX) Wotruba Gottfried (Poing DEX), Controlled power supply for integrated circuits.
  5. Bulucea Constantin, Fabrication of multiple field-effect transistor structure having local threshold-adjust doping.
  6. Takashima Daisaburo,JPX, Logic circuit and semiconductor device using it.
  7. Young William R. (West Melbourne FL), Low voltage CMOS amplifier.
  8. Chen Shen-Li,TWX, Method of measuring the threshold voltage of metal-oxide semiconductor field-effect transistors.
  9. Hashimoto Kiyokazu (Tokyo JPX), Non-volatile semiconductor memory device equipped with high-speed sense amplifier unit.
  10. Gerber Bernard (Neuchatel CHX) Fellrath Jean (Neuchatel CHX), Non-volatile, electrically erasable and reprogrammable memory element.
  11. Sakata Takeshi (Kunitachi JPX) Itoh Kiyoo (Higashikurume JPX) Horiguchi Masashi (Kawasaki JPX), Semiconductor integrated circuits with power reduction mechanism.
  12. Morokawa Shigeru (Higashiyamato JPX), Voltage conversion system for electronic timepiece.

이 특허를 인용한 특허 (19)

  1. Kokubo, Chiho; Yamagata, Hirokazu; Yamazaki, Shunpei, Active matrix display device having a column-like spacer.
  2. Murakami, Satoshi; Hirakata, Yoshiharu; Fujimoto, Etsuko; Yamazaki, Yu; Yamazaki, Shunpei, Capacitor, semiconductor device and manufacturing method thereof.
  3. Murakami, Satoshi; Hirakata, Yoshiharu; Fujimoto, Etsuko; Yamazaki, Yu; Yamazaki, Shunpei, Capacitor, semiconductor device and manufacturing method thereof.
  4. Murakami,Satoshi; Hirakata,Yoshiharu; Fujimoto,Etsuko; Yamazaki,Yu; Yamazaki,Shunpei, Capacitor, semiconductor device and manufacturing method thereof.
  5. Geissler, Stephen F., Low voltage current reference circuits.
  6. Hendrickson,Eric O., Method and system for reducing glitch effects within combinational logic.
  7. Yamazaki,Shunpei; Ohtani,Hisashi; Ohnuma,Hideto, Method of manufacturing a semiconductor device.
  8. Kokubo, Chiho; Yamagata, Hirokazu; Yamazaki, Shunpei, Semiconductor comprising a TFT provided on a substrate having an insulating surface and method of fabricating the same.
  9. Murakami,Satoshi; Hirakata,Yoshiharu; Fujimoto,Etsuko; Yamazaki,Yu; Yamazaki,Shunpei, Semiconductor device.
  10. Hirakata, Yoshiharu; Goto, Yuugo; Kobayashi, Yuko; Yamazaki, Shunpei, Semiconductor device and method of fabricating the same.
  11. Hirakata, Yoshiharu; Goto, Yuugo; Kobayashi, Yuko; Yamazaki, Shunpei, Semiconductor device and method of fabricating the same.
  12. Hirakata, Yoshiharu; Goto, Yuugo; Kobayashi, Yuko; Yamazaki, Shunpei, Semiconductor device and method of fabricating the same.
  13. Hirakata, Yoshiharu; Goto, Yuugo; Kobayashi, Yuko; Yamazaki, Shunpei, Semiconductor device and method of fabricating the same.
  14. Hirakata, Yoshiharu; Goto, Yuugo; Kobayashi, Yuko; Yamazaki, Shunpei, Semiconductor device and method of fabricating the same.
  15. Hirakata, Yoshiharu; Goto, Yuugo; Kobayashi, Yuko; Yamazaki, Shunpei, Semiconductor device and method of fabricating the same.
  16. Hirakata,Yoshiharu; Goto,Yuugo; Kobayashi,Yuko; Yamazaki,Shunpei, Semiconductor device and method of fabricating the same.
  17. Kokubo, Chiho; Yamagata, Hirokazu; Yamazaki, Shunpei, Semiconductor device and method of fabricating the same.
  18. Kokubo, Chiho; Yamagata, Hirokazu; Yamazaki, Shunpei, Semiconductor device and method of fabricating the same.
  19. Kokubo, Chiho; Yamagata, Hirokazu; Yamazaki, Shunpei, Semiconductor device applying to the crystalline semiconductor film.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로