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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0728315 (2000-11-30) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 151 인용 특허 : 4 |
A method of fabricating a semiconductor device having a Cu--Ca--O thin film formed on a Cu surface by immersing the Cu surface into a unique chemical (electroless plating) solution containing salts of calcium (Ca) and copper (Cu), their complexing agents, a reducing agent, a pH adjuster, and surfact
[ What is claimed:] [1.]1. A method of fabricating a copper-calcium-oxide (Cu--Ca--O) thin film on a copper (Cu) surface formed on a semiconductor device by treating the Cu surface in a chemical solution, comprising the steps of:(1) providing the semiconductor substrate;(2) providing the chemical so
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