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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0496537 (2000-02-02) |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 29 인용 특허 : 15 |
Surface cleaning, chemical treatment and drying of semiconductor substrates is carried out using foam as a medium instead of a condensed phase liquid medium. In cleaning and chemical treatment, by introducing a foam into an overflow vessel the foam is caused to pass over the substrate in moving cont
[ What is claimed is:] [1.]1. A process for treatment of a semiconductor substrate having a surface to which undesired particles adhere comprising:introducing a liquid from at least one liquid supply tank and a gas from a gas supply line into a mixer and generating in said mixer a foam consisting of
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