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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0395724 (1999-09-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 14 |
A method and resulting structure for reducing refraction and reflection occurring at the interface between adjacent layers of different materials in a semiconductor device, assembly or laminate during an alignment step in a semiconductor device fabrication process. The method comprises forming a fir
[ What is claimed is:] [14.]14. A method for forming a multi-layered semiconductor device or assembly having reduced light refraction between different materials forming process layers therein, the method comprising forming at least one corrective layer of material at an interface of one or more pro
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