[특허]Apparatus and method for processing

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Apparatus and method for processing 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B23K-026/00
출원번호	US-0219506 (1998-12-23)
우선권정보	JP0356852 (1997-12-25)
발명자 / 주소	Nakai Izuru,JPX Muneyuki Ken,JPX
출원인 / 주소	Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., JPX
대리인 / 주소	Wenderoth, Lind & Ponack, L.L.P.
인용정보	피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 10

초록 ▼

A holding member is set, which sucks at a contact face, only a part of the periphery of a process area of a sheet-like article to hold the article. The holding member and the sheet-like article are moved relatively in such manner that the contact face is not physically in touch with an already processed area while the contact face maintains its suction to the sheet-like article. A deformation of the already processed area or a mixture of foreign articles to the already processed area can be prevented.

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.]1. A method for processing sheet articles, which comprises:holding a sheet article while applying a tensile force to the sheet article to be processed and holding a part of a periphery of a process area to be processed of the sheet article by a holding member; andrelatively moving the sheet article and the holding member in order to form a plurality of the process areas in the sheet article in such manner that the process areas already formed in the sheet article are not rubbed by the holding member while the part of the periphery of the process area is held.

이 특허에 인용된 특허 (10)

Nedblake Greydon W. ; Garbe John, Apparatus for producing labels from a web and for applying such labels to objects.
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Takeuchi, Bunzi, Apparatus for scribing semiconductor wafer with laser beam.
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Lee Michael John (Didcot EN), Apparatus for thermally machining thermoplastics sheet.
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Petric Paul F. (Swampscott MA), Charged particle beam lithography machine incorporating localized vacuum envelope.
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Lamattina John R. (Wakefield MA) Petric Paul F. (Swampscott MA), Envelope apparatus for localized vacuum processing.
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Lawrence Merlin (Fairview PA), Laser marker for articles of manufacture.
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Gawa Tomohiro,JPX ; Wada Akira,JPX ; Muneyuki Ken,JPX ; Yamamoto Souji,JPX ; Kawata Masahiro,JPX ; Nakamura Akiko,JPX ; Kasai Kenji,JPX, Laser processing method.
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Akiyama Nobuyuki (Yokohama JPX) Kembo Yukio (Yokohama JPX) Nakagawa Yasuo (Yokohama JPX) Aiuchi Susumu (Yokohama JPX) Nomoto Mineo (Yokohama JPX), Light exposure device and method.
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Weeks Theodore R. (Canandaiqua NY) Lopez Robert R. (Norwalk CA) Burgardt John J. (Santa Ana CA) Hoffman Donald J. (Laguna Niguel CA), Method and apparatus for laser cutting of multiple stacked metal worksheets.
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Behn Reinhard (Munich DEX), Method for the formation of narrow, metal-free strips in a metal layer on plastic sheets.
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이 특허를 인용한 특허 (2)

Dougherty, Thomas J., Laser cutting system.
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Xie, Chunyan, Laser stripping apparatus.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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