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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0614718 (2000-07-12) |
우선권정보 | KR0028609 (1999-07-15) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 168 인용 특허 : 6 |
The present invention provides an apparatus for deposition of thin films on a plurality of wafers through an atomic layer epitaxial process within a reaction chamber. The apparatus has a susceptor, provided within the reaction chamber to hold the wafers and has of a plurality of wafer stations. A pl
[ What is claimed is:] [1.]1. An apparatus for deposition of thin films on a plurality of wafers through an atomic layer epitaxial process within a sealed reaction chamber, comprising:a susceptor provided within said reaction chamber to hold the wafers thereon, said susceptor consisting of a plurali
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