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Semiconductor wafer manufacturing method and apparatus for an improved heat exchanger for a photoresist developer 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03D-005/00
출원번호 US-0829912 (2001-04-11)
발명자 / 주소
  • Wakamiya Ted
  • Kent Eric
  • Marinaro Vincent L.
출원인 / 주소
  • Advanced Micro Devices, Inc.
대리인 / 주소
    Foley & Lardner
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 2

초록

Embodiments of the invention comprise a new device and technique to realize an improved temperature control for a chemical photoresist developer utilizing a preexisting integrated single reservoir. This improvement is achieved by providing for a modified temperature control unit and procedure. The t

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.]1. A method of providing a temperature controlled developer utilizing a preexisting integrated single reservoir, comprising the steps of:temperature controlling a first portion of developer within a temperature controlling developer dispensing reservoir, andtemperature con

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. Hasebe Keizo (Kofu JPX) Tateyama Kiyohisa (Kumamoto JPX) Yoshimoto Yuji (Shisui JPX) Matsuyama Yuji (Oozu JPX) Nakahara Tetsuro (Mashiki JPX) Kimura Yoshio (Koshi JPX), Liquid coating system.
  2. Fujimoto Akihiro,JPX, Substrate treatment apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Mathias, James A.; Chadwell, G. Bradley; Qiu, Dongming; Tonkovich, Annalee Y.; Perry, Steven T.; Schmidt, Matthew B.; Fitzgerald, Sean P.; Hesse, David J.; Yuschak, Thomas D.; Yang, Bin, Multi-stream microchannel device.
  2. Mathias,James Allen; Chadwell,G. Bradley; Qiu,Dongming; Tonkovich,Anna Lee Y.; Perry,Steven T.; Schmidt,Matthew B., Multi-stream microchannel device.
  3. Mathias, James A.; Chadwell, G. Bradley; Qui, Dongming; Tonkovich, Anna Lee Y.; Perry, Steven T.; Schmidt, Matthew B.; Fitzgerald, Sean P.; Hesse, David J.; Yuschak, Thomas D.; Yang, Bin, Multi-stream multi-channel process and apparatus.
  4. Tonkovich, Anna Lee; Simmons, Wayne W.; Jarosch, Kai Tod Paul; Mazanec, Terry; Daymo, Eric; Peng, Ying; Marco, Jennifer Lynne, Process for conducting an equilibrium limited chemical reaction in a single stage process channel.
  5. Tonkovich,Anna Lee; Simmons,Wayne W.; Jarosch,Kai Tod Paul; Mazanec,Terry; Daymo,Eric; Peng,Ying; Marco,Jennifer Lynne, Process for conducting an equilibrium limited chemical reaction in a single stage process channel.
  6. Tonkovich, Anna Lee; Jarosch, Kai Tod Paul; Mazanec, Terry; Daly, Francis P.; Taha, Rachid; Aceves de Alba, Enrique, Process for conducting an equilibrium limited chemical reaction using microchannel technology.
  7. Mathias,James A.; Arora,Ravi; Simmons,Wayne W.; McDaniel,Jeffrey S.; Tonkovich,Anna Lee; Krause,William A.; Silva,Laura J.; Qiu,Dongming, Process for cooling a product in a heat exchanger employing microchannels.
  8. Mathias, James A.; Arora, Ravi; Simmons, Wayne W.; McDaniel, Jeffrey S.; Tonkovich, Anna Lee; Krause, William A.; Silva, Laura J., Process for cooling a product in a heat exchanger employing microchannels for the flow of refrigerant and product.
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